板材、制備板材的方法、殼體和電子設備與流程
1.本技術涉及電子設備領域，具體地，涉及板材、制備板材的方法、殼體和電子設備。
背景技術
：：：2.當代流行和產(chǎn)業(yè)規(guī)模較大的電子消費品，通常廣泛使用各種材料、顏來提高其外觀裝飾效果。自智能手機使用光面效果的電池蓋以來，光面效果的電池蓋幾乎推廣應用到了所有的電子設備上，可以預見，美觀大方的智能手機霧面效果的電池蓋也極具推廣應用潛力。如何在霧面效果的外觀和質(zhì)感的前提下，實現(xiàn)產(chǎn)品的差異化，就成為了各大廠商必須要思考解決的問題。閃光砂效果作為一種特殊的玻璃霧面效果，將其應用于電池蓋上，可以賦予電池蓋差異化的外觀和高級的質(zhì)感。但現(xiàn)有技術中閃光砂效果的制備存在基材選擇局限性較大和環(huán)境污染較重等問題，不利于閃光砂效果電池蓋的推廣應用。3.因此，目前的板材、制備板材的方法、殼體和電子設備仍有待改進。技術實現(xiàn)要素：4.本技術旨在至少在一定程度上解決相關技術中的技術問題之一。5.在本技術的一個方面，本技術提出了一種板材，包括：基材，所述基材包括相對設置的第一表面和第二表面；閃光砂層，所述閃光砂層形成于所述第一表面一側(cè)，所述閃光砂層具有相對設置的兩個表面，其中朝向所述基材一側(cè)的表面具有均一的高度，遠離所述基材的一側(cè)表面包括凸起或凹陷，且所述凸起或凹陷具有棱狀部。由此，可通過閃光砂層的設置提高板材的美觀度和手感。6.在本技術的又一個方面，本技術提出了一種制備前面所述的板材的方法，包括：提供基材；在所述基材的第一表面一側(cè)形成閃光砂層，形成所述閃光砂層包括在利用轉(zhuǎn)印模具在所述閃光砂層遠離所述第一表面的一側(cè)轉(zhuǎn)印形成凸起或凹陷。由此，通過轉(zhuǎn)印工藝在基材的表面形成閃光砂層的方法不受基材種類的限制，有利于閃光砂層在多種基材上的應用。7.在本技術的又一個方面，本技術提出了一種殼體，所述殼體的至少一部分是由前面所述的板材形成的。由此，可得到具有閃光砂效果的殼體，殼體的美觀度和質(zhì)感顯著提升。8.在本技術的又一個方面，本技術提出了一種電子設備，包括：殼體，所述殼體限定出容納空間，所述殼體為前面所述的，主板和顯示屏，所述主板與所述顯示屏電連接，并位于所述容納空間內(nèi)部。由此，可得到殼體具有閃光砂效果的電子設備，從而提高電子設備的視覺效果。附圖說明9.圖1顯示了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的板材的結(jié)構(gòu)示意圖；10.圖2顯示了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的板材的效果圖；11.圖3顯示了相關技術中的板材的效果圖；12.圖4顯示了根據(jù)本發(fā)明的又一個實施例的板材的結(jié)構(gòu)示意圖；13.圖5顯示了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的板材的部分結(jié)構(gòu)示意圖；14.圖6顯示了根據(jù)本發(fā)明的又一個實施例的板材的結(jié)構(gòu)示意圖；15.圖7顯示了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的制備板材方法的流程示意圖；16.圖8顯示了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的制備板材方法的部分流程示意圖；17.圖9顯示了根據(jù)本發(fā)明的又一個實施例的制備板材方法的部分流程示意圖；18.圖10顯示了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的電子設備的結(jié)構(gòu)示意圖。19.附圖標記說明：1000：板材；1500：殼體；100基材；200：閃光砂層；300：裝飾層；310：顏層；320：uv紋理層；330：鍍膜層；340：油墨層；400：防指紋層。具體實施方式20.下面詳細描述本技術的實施例，所述實施例的實施例在附圖中示出，其中自始至終相同或類似的標號表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附圖描述的實施例是實施例性的，僅用于解釋本技術，而不能理解為對本技術的限制。21.在本技術中，除非另有明確的規(guī)定和限定，術語“相連”、“連接”、“連通”等術語應做廣義理解，例如，可以是直接相連，也可以通過中間媒介或部件間接相連。對于本領域的普通技術人員而言，可以根據(jù)具體情況理解上述術語在本技術中的具體含義，只要滿足根據(jù)本技術實施例的結(jié)構(gòu)關系即可。22.在本技術的一個方面，參考圖1和圖2，本發(fā)明提出了一種板材1000，包括：基材100，基材100包括相對設置的第一表面和第二表面；閃光砂層200，閃光砂層200形成于第一表面一側(cè)，閃光砂層200具有相對設置的兩個表面，其中朝向基材100一側(cè)的表面具有均一的高度，閃光砂層200遠離基材的一側(cè)包括凸起或凹陷，且凸起或凹陷具有棱狀部。也即是說，位于遠離基材一側(cè)表面的凸起或是凹陷的深度未貫穿閃光砂層200，閃光砂層的厚度大于凸起或凹陷的高度。位于板材第一表面一側(cè)的閃光砂層具有的凸起或凹陷結(jié)構(gòu)可以將光反射向不同的方向，即板材具有閃光砂效果，閃光砂效果是一種特殊的霧面效果，因閃光砂層表面具有不規(guī)則的多面棱狀部，且閃光砂層具有的棱狀部中至少一個棱可以產(chǎn)生鏡面反射，在光照下具有閃閃發(fā)光的外觀效果，使得板材同時具有防眩光、防指紋和閃光外觀效果。23.制備閃光砂層的現(xiàn)有技術是將多種化學試劑與玻璃發(fā)生化學反應(蒙砂處理)以實現(xiàn)閃光砂效果，如將玻璃片浸在含和硝酸等其他化學試劑的槽體中，通過一段時間的化學反應，使玻璃外表面形成許多多面錐形結(jié)構(gòu)的細小顆粒，參考圖3，當光線照在方向各異的顆粒表面就能產(chǎn)生閃閃發(fā)光的效果，即閃光砂效果。現(xiàn)有技術的限制較多，如只能應用在玻璃基材上等，且生產(chǎn)過程中需要使用對環(huán)境和人體危害極大的和硝酸。因此現(xiàn)有技術不適用非玻璃材質(zhì)的產(chǎn)品，且制造成本較高，不環(huán)保。而根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，形成閃光砂層的材料不受特別限制，例如閃光砂層可以是由uv膠水形成的。由于uv膠水可通過包括但不限于轉(zhuǎn)印工藝形成各種形狀，因此具有可塑性高，塑型工藝簡單的優(yōu)點，有助于形成閃光砂層的凸起和凹陷結(jié)構(gòu)。并且，uv膠水固化后也具有較高的透明度，因此可以為板材帶來與玻璃表面經(jīng)刻蝕形成的閃光砂效果一致的反光效果。24.根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，閃光砂層的硬度不受特別限制，例如閃光砂層的硬度可不小于2h，當閃光砂層的硬度小于2h時，該閃光砂層的耐劃傷能力較差，容易在使用過程中由于劃痕等問題而降低棱狀部的反射效果，進而影響閃光砂層的耐久度。具體地，該閃光砂層的硬度可以為3h～5h左右。需要特別說明的是，在本技術中，如無特殊說明，該硬度為采用鉛筆硬度進行測量獲得的。具體地，鉛筆硬度又稱涂膜硬度鉛筆測定法，按工業(yè)標準，鉛筆筆芯的硬度分為13級。從最硬的6h逐級遞減經(jīng)5h、4h、3h、2h、h，再經(jīng)軟硬適中的hb，然后從b、2b到最軟的6b。其中h代表硬度(hardness)，b代表黑度(black)。從6h到6b硬度依次降低。在涂料工業(yè)中，利用這一系列的不同硬度鉛筆來檢驗涂膜的硬度，得到的測試結(jié)果稱為涂膜的鉛筆硬度。測定涂膜鉛筆硬度的測試儀由鉛筆夾具和涂膜樣板移動臺兩部分組成。待試的涂膜樣板正面朝上固定在移動臺上，鉛筆則夾在鉛筆夾具上，并與涂膜的平面成45°角，夾具上端有重錘，使筆尖緊壓在涂膜之上。搖動搖柄，移動臺就帶著樣板向前移動，讓鉛筆在涂膜上作推犁式劃動，每劃一次，換一支鉛筆，從最硬的鉛筆開始順序由硬到軟，逐個試驗，直到出涂膜不被劃破的鉛筆，這支鉛筆的硬度即為被測試涂膜的硬度。25.根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，當閃光砂層的的表面粗糙度適當時，板材時具有明顯的觸感，手持感和立體感較好，還具有較好的防滑和防指紋的功能。閃光砂層的表面粗糙度不受特別限制，例如閃光砂層的表面粗糙度范圍可以為1.5-2.5微米。由此，較大的表面粗糙度使光線在第一表面的鏡面反射更加顯著，進而進一步提升閃光砂效果。當閃光砂層的表面粗糙度小于1.5微米時，會減弱防眩光效果、防指紋效果以及閃光砂效果；當閃光砂層的表面粗糙度大于2.5微米，觸感過于明顯，使用過程中有硌手的感覺。26.根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，閃光砂層的光澤度與閃光砂層的閃光砂效果相關，閃光砂層的光澤度不受特別限制，例如60度光澤測試的光澤度范圍可以為5-20gu。當閃光砂層60度光澤測試的光澤度小于5gu時，閃光砂層的反光效果較弱，閃光砂效果較弱，觀感較暗；當閃光砂層60度光澤測試的光澤度大于20gu時，閃光砂層的反光效果過強，實際使用過程中較為晃眼。27.根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，閃光砂層的霧度不受特別限制，例如閃光砂層的霧度范圍可以為50％-70％。當閃光砂層的霧度的在上述范圍內(nèi)時，既能夠?qū)崿F(xiàn)較好的防眩光、防指紋效果，同時兼具閃閃發(fā)光的外觀效果，使得板材具有更加美觀的外觀效果。28.根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，閃光砂層凸起或凹陷構(gòu)造的晶型不受特別限制，例如凸起或凹陷構(gòu)造可以為六方晶型、立方晶型、三方晶型和四方晶型中的至少一種，或者說凸起結(jié)構(gòu)的形貌屬于六方晶系晶體形貌、立方晶系晶體形貌、三方晶系晶體形貌和四方晶系晶體形貌中的至少一種。可以理解，六方晶系具有四個晶軸，即一個豎直軸(z軸)和三個水平橫軸(x軸、y軸和u軸)，豎直軸與水平橫軸的交交均為90度，三個水平橫軸之間的夾角為60度，圍繞z軸旋轉(zhuǎn)一周，三個水平橫軸可以重合6次。而立方晶系又稱等軸晶系，其必定有四個三次對稱軸的同時，不是還有三個相互垂直的四次軸，就是還有3個相互垂直的2次對稱軸，此3個四次軸或2次對稱軸即為晶體的3個結(jié)晶軸，三個結(jié)晶軸長度一樣，且相互垂直；在晶體外形或宏觀物性中能呈現(xiàn)出具有惟一高次三重軸或三重反軸特征對稱元素的晶體歸屬于三方晶系，而在唯一具有高次軸的c軸主軸方向存在四重軸或四重反軸特征對稱元素的晶體歸屬于四方晶系。具有上述晶型的凸起或凹陷結(jié)構(gòu)，在光照條件下閃光效果更佳，利于提高外觀美觀度。根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，閃光砂層凸起或凹陷構(gòu)造可進一步具有尖狀部，光照時尖狀部的棱狀部產(chǎn)生鏡面反射，由此有助于進一步提高閃光砂層的閃光砂效果。29.根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，閃光層的厚度不受特別限制，例如閃光砂層的厚度范圍可以為5-15微米，當閃光砂層的厚度小于5微米時，閃光砂層過薄，閃光砂效果不明顯，無法顯著提高美觀度和質(zhì)感；當閃光砂層的厚度大于15微米時，閃光砂層過厚，易造成脆性開裂，導致外觀不良。30.根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，凸起或凹陷的高度可以為1.5-2.5微米，例如具體可以為2微米。由此，可形成較好的反光砂效果，同時能夠保證該凸起或凹陷不貫穿閃光砂層，從而可以利用另一側(cè)平整的表面提高閃光砂層與基體結(jié)合的牢固程度。31.根據(jù)本發(fā)明的實施例，為了更好地利用uv膠水形成滿足前述調(diào)節(jié)的閃光砂層，uv膠水中需含有更高比例高官能度聚氨酯丙烯酸酯。具體地，uv膠水中的高官能度聚氨酯丙烯酸酯可以為9官聚氨酯丙烯酸酯和8官聚氨酯丙烯酸酯，uv膠水中9官聚氨酯丙烯酸酯和8官聚氨酯丙烯酸酯組成的高官能度聚氨酯丙烯酸酯比例范圍可以為45％-55％，高官能度聚氨酯丙烯酸酯聚合后具有較高的硬度，以確保閃光砂層能夠通過耐劃傷測試。當uv膠水中高官能度聚氨酯丙烯酸酯組成比例小于45％時，閃光砂層會因硬度不足而無法通過耐劃傷測試；當uv膠水中高官能度聚氨酯丙烯酸酯組成比例大于55％時，閃光砂層會因過硬而導致脆性增大，從而導致跌落開裂情況發(fā)生。由此，具有上述化學組成的uv膠水具有較好的流動性，固化后形成的閃光砂層硬度適中，且可保持uv膠水的高透明度不受影響。參考圖2和圖3可知，根據(jù)本技術實施例的閃光砂層可獲得與玻璃表面通過刻蝕形成的閃光砂效果相一致的外觀效果。由此，可利用該閃光砂層為復合板材提供玻璃閃光砂效果，一方面可以免去利用酸腐蝕形成閃光砂而形成的環(huán)境污染，另一方面也可采用復合板材替代玻璃材料形成殼體，從而有利于減輕殼體重量，節(jié)約制造成本。32.根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，形成基材的第一表面和第二表面的材料不受特別限制，例如基材的第一表面可以是由聚甲基丙烯酸甲酯形成的，基材的第二表面可以是由聚碳酸酯形成的。基材為復合板材，可由聚甲基丙烯酸甲酯和聚碳酸酯兩種材料共擠成型形成，其中聚甲基丙烯酸甲酯具有較高的硬度和耐磨性，故聚甲基丙烯酸甲酯側(cè)常用于外層，即基材上形成閃光砂層的第一表面一側(cè)。但由于聚甲基丙烯酸甲酯脆性較大，使用過程中易發(fā)生斷裂，故在基材的另一側(cè)，即第二表面可由聚碳酸酯形成內(nèi)層，從而可提高基材的整體韌性。33.根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，參考圖4，為了進一步提高板材1000的美觀度，板材1000上可進一步包括裝飾層300，裝飾層300位于第二表面遠離第一表面的一側(cè)。參考圖5，裝飾層300可進一步包括顏層310，uv紋理層320，鍍膜層330，油墨層340。34.根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，顏層決定板材的顏效果，顏層可位于基材第二表面的一側(cè)。制備顏層的工藝不受特別限制，例如可通過膠印、噴涂或絲印等工藝使板材獲得半透效果(單或者多效果)。35.根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，uv紋理層位于顏層遠離基材的一側(cè)，制備uv紋理層的工藝不受特別限制，具體地，可將紋理模板放在轉(zhuǎn)印機的載臺上，其中紋理層朝上，在紋理模板上加上一層液態(tài)uv膠水；將板材蓋在紋理模板上，uv膠水位于板材和紋理模板之間，使用滾輪在板材的表面滾壓，使得uv膠水均勻分布于紋理模板上；在滾輪滾壓的同時，采用led燈在紋理模板下方移動跟隨照射，使得uv膠水初步固化，固化能量范圍可以為1200-2600mj/cm2；隨后將板材取下，并用汞燈對板材上的uv膠水進行二次固化，固化能量范圍可以為800-1500mj/cm2，確保uv膠水層固化完全，避免uv紋理層出現(xiàn)性能問題。36.根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，鍍膜層位于uv紋理層遠離顏層的一側(cè)，制備鍍膜層的工藝不受特別限制，具體地，先鍍不導電金屬膜，不導電金屬膜可以為純銦或銦/錫合金，形成不導電金屬膜的電子蒸發(fā)鍍可使用純度99.9％的純銦，形成不導電金屬膜的磁控濺射鍍可采用銦/錫合金，銦/錫比例為8:2或9:1；再鍍光學顏膜，形成光學顏膜的電子蒸發(fā)鍍可采用zro2打底，ti3o5/sio2依次疊層，形成光學顏膜的磁控濺射鍍可采用zro2打底，使用nb2o5或nb2o5/sio2依次疊層。鍍膜時間越長，膜層的厚度越厚，金屬光澤效果越亮。可以理解的是，鍍不導電金屬膜和光學顏膜的工藝不受特別限制，既可采用電子蒸發(fā)鍍，也可采用磁控濺射鍍，本領域技術人員可根據(jù)實際情況進行選擇。37.根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，油墨層位于鍍膜層遠離uv紋理層的一側(cè)，制備油墨層的工藝不受特別限制，具體地，油墨層可采用多層套，每一層均采用油墨絲網(wǎng)印刷工藝；形成油墨層的油墨為一定比例的帶油墨、固化劑、稀釋劑和助劑混合而成，油墨層的厚度范圍為0.006-0.01mm；油墨印刷工藝的烘烤溫度可為80攝氏度。38.為了進一步提高板材的性能，緩解使用過程中指紋的表面殘留，影響美觀，參考圖6，可在閃光砂層200遠離基材100的一側(cè)形成水接觸角大于100度的防指紋層400。39.根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，防指紋層可起到防污的效果。制備防指紋層的工藝不受特別限制，具體地，可通過真空鍍膜將有機氟化物材料沉積到基材上。40.在本技術的另一個方面，本發(fā)明提出了一種制備上述的板材的方法，包括：提供基材；在基材的第一表面一側(cè)形成閃光砂層，形成閃光砂層包括在利用轉(zhuǎn)印模具在閃光砂層遠離第一表面的一側(cè)轉(zhuǎn)印形成凸起或凹陷。通過轉(zhuǎn)印工藝在基材的表面形成閃光砂層的方法不受基材種類的限制，通過uv膠水的轉(zhuǎn)印及光照固化即可在基材表面形成凸起或凹陷結(jié)構(gòu)，有利于在多種基材上形成具有閃光砂效果的閃光砂層，且制造成本低，對環(huán)境友好。41.為了便于理解，下面對該制備板材的方法可實現(xiàn)上述有益效果的原理進行解釋：42.如前所述，在玻璃材料上形成閃光砂表面具有制造成本較高，不環(huán)保等缺點。本發(fā)明提出的通過uv轉(zhuǎn)印工藝制備的閃光砂層不受基材的限制，且uv轉(zhuǎn)印工藝中無需使用對人體和環(huán)境危害極大的酸性溶劑，僅需uv膠水和led燈源，且通過調(diào)節(jié)模具的形狀，即可調(diào)節(jié)固化后uv膠水表面的形貌，進而可以簡便地形成前述的具有閃光砂效果的凸起或凹陷。故本發(fā)明中提出的制備閃光砂層的方法具有適用范圍廣，制造成本低，環(huán)保的優(yōu)點，解決了閃光砂層基材受限于玻璃和生產(chǎn)過程不環(huán)保的問題，擴大了閃光砂效果的可設計性和應用范圍。43.具體地，參考圖7，該方法可包括以下步驟：44.s100：提供基材45.根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，基材的種類不受特別限制，例如基材可具有第一表面和第二表面，其中第一表面可由聚甲基丙烯酸甲酯形成，第二表面可以由聚碳酸酯形成。46.s200：在基材的第一表面一側(cè)形成閃光砂層47.根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，在該步驟形成閃光砂層，閃光砂層具有閃光砂效果，形成閃光砂層的材料不受特別限制，例如閃光砂層可以是由uv膠水形成的。形成閃光砂層的工藝不受特別限制，具體地，參考圖8，在基材的第一表面一側(cè)形成閃光砂層具體可包括以下步驟：48.s210：將uv膠水置于閃光砂模板上，令uv膠水與紋理接觸49.根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，在該步驟令uv膠水與紋理接觸。閃光砂模板上具有用于形成凸起或凹陷的紋理，形成閃光砂模板的材料不受特別限制，例如形成閃光砂模板的材料可以為聚碳酸酯。當形成閃光砂模板的材料為聚碳酸酯時，閃光砂模板疏水疏油，與uv膠水不粘結(jié)，故當uv膠水與閃光砂模板接觸時，uv膠水會鋪滿閃光砂模板上具有的用于形成凸起或凹陷的紋理結(jié)構(gòu)，且與閃光砂模板不粘結(jié)，易于進行轉(zhuǎn)印。50.s220：將基材置于uv膠水上，令第一表面與uv膠水接觸51.根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，在該步驟令第一表面與uv膠水接觸，基材的第一表面與uv膠水間的粘結(jié)力較大，有助于在基材表面形成閃光砂層。為了提高基材與uv膠水接觸的緊密程度以及uv膠水與閃光砂模板上紋理的貼合程度，可在第一表面與uv膠水接觸后，對基材進行滾壓處理。根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，滾壓處理的方式不受特別限制，例如可利用滾輪自基材的第二表面一側(cè)對基材進行滾壓處理。52.s230：對uv膠水進行光照固化處理53.根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，在該步驟對uv膠水進行光照固化處理，以令uv膠水固化，形成固化的閃光砂紋理結(jié)構(gòu)并附著在基材的第一表面，為了便于操作和簡化工藝流程，可在對基材進行上述的滾壓處理的同時自閃光砂模板一側(cè)對uv膠水進行光照固化處理。54.根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，光照固化處理的固化能量不受特別限制，例如光照固化處理的固化能量范圍可以為800-2200mj/cm2。當光照固化處理的固化能量小于800mj/cm2時，無法將uv膠水完全固化，形成的閃光砂層膜層固化程度較差，在實際使用過程中閃光砂層易磨損；當光照固化處理的固化能量大于2200mj/cm2時，uv膠水固化速率過快，閃光砂層表面形成的凸起或凹陷結(jié)構(gòu)不完整，閃光砂層的閃光砂效果較差，另外能量過量會導致uv膠水老化，從而導致閃光砂層的脆性變大，跌落撞擊后易發(fā)生開裂。55.為了進一步提高板材的適用性，當板材應用于3d結(jié)構(gòu)的殼體時，在將基材置于uv膠水上，令第一表面與uv膠水接觸后，需分兩次進行光照固化處理，以形成具有3d結(jié)構(gòu)的板材，具體地，參考圖9，可包括以下步驟：56.s221：利用滾輪自基材的第二表面一側(cè)對基材進行滾壓處理，同時對uv膠水進行第一光照固化處理57.根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，在該步驟通過第一光照固化處理令uv膠水處于半固化狀態(tài)，以避免在后續(xù)的高壓成型處理時閃光砂層出現(xiàn)開裂的情況。第一光照固化處理的固化能量不受特別限制，例如第一光照固化處理的固化能量范圍可以為100-200mj/cm2。當?shù)谝还庹展袒幚淼墓袒芰啃∮?00mj/cm2時，uv膠水無法達到半固化狀態(tài)，即仍部分處于流體狀態(tài)，在進行基材轉(zhuǎn)移時無法將具有完整結(jié)構(gòu)的閃光砂層一并轉(zhuǎn)移，故無法形成3d結(jié)構(gòu)的閃光砂層；當?shù)谝还庹展袒幚淼墓袒芰看笥?00mj/cm2時，uv膠水已完全固化，在進行高壓處理時閃光砂層會出現(xiàn)開裂，無法得到完整的3d結(jié)構(gòu)的閃光砂層。58.s222：對經(jīng)過第一光照固化處理的基材進行高壓成型處理59.根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，在該步驟通過高壓成型處理以形成包括主體面和至少2個側(cè)壁的結(jié)構(gòu)。高壓成型處理的工藝不受特別限制，具體地，高壓成型處理可包括：對基材進行軟化處理；將經(jīng)過軟化處理的基材置于模具中，并向模具內(nèi)通入氣體并實現(xiàn)密封，并進行保壓處理。經(jīng)過上述的高壓成型處理后，經(jīng)過第一光照固化處理的基材即可具有包括主體面和至少2個側(cè)壁的結(jié)構(gòu)，從而在對板材進行切割后即可獲得具有3d結(jié)構(gòu)的殼體。60.根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，軟化處理時的溫度可以大于形成基材的材料的軟化溫度。軟化處理的溫度不受特別限制，例如軟化處理的溫度范圍可以為350-450攝氏度。當軟化處理的溫度小于350度時，基材未能完全軟化，進行后續(xù)的成型處理時無法與模具形狀較好的貼合，無法獲得與模具結(jié)構(gòu)相吻合的3d結(jié)構(gòu)基材；當軟化溫度大于450度時，形成基材的聚合物材料發(fā)生高溫分解，失去原有的基材結(jié)構(gòu)。61.根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，軟化處理的時間不受特別限制，例如軟化處理的時間范圍可以為15-30s。當軟化處理的時間小于15s時，基材未能完全軟化，后續(xù)成型處理時與模具貼合不緊密；當軟化處理的時間大于30s時，基材由固態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)榱黧w，基材表面的閃光砂層結(jié)構(gòu)被破壞，3d結(jié)構(gòu)成型后的基材表面不再具有閃光砂層，即不存在閃光砂效果，無法滿足使用需求。62.根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，為了令基材具有3d結(jié)構(gòu)，可將經(jīng)軟化處理過程后的基材放入成型模具中進行成型處理，成型過程中基材根據(jù)模具的形狀發(fā)生塑性形變。為了提高基材3d結(jié)構(gòu)的穩(wěn)定性，可在基材以模具形狀發(fā)生塑型形變后對其進一步進行保壓處理。合適的保壓時間和保壓壓力，可以顯著提高產(chǎn)品生產(chǎn)的穩(wěn)定性，減少產(chǎn)品缺陷的發(fā)生，實現(xiàn)較好的產(chǎn)品質(zhì)量控制。保壓處理時模具的溫度不受特別限制，例如保壓處理時模具的溫度范圍可以為130-140攝氏度。當保壓處理的溫度小于130攝氏度時，基材未能完全軟化，與模具貼合不緊密，影響最終產(chǎn)品形態(tài)；當保壓處理的溫度大于140攝氏度時，基材過度軟化，會形成橘皮缺陷，造成外觀不良。63.根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，保壓處理時的模內(nèi)氣壓不受特別限制，例如保壓處理時的模內(nèi)氣壓可以為6-7mpa。當保壓處理時的模內(nèi)氣壓小于6mpa時，模內(nèi)氣壓較低，不利于基材貼合模具表面，會影響產(chǎn)品最終的形態(tài)；當保壓處理的模內(nèi)氣壓大于7mpa時，模內(nèi)氣壓過大，基材壓縮較為明顯，會形成橘皮缺陷，造成外觀不良。64.根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，保壓處理的時間不受特別限制，例如保壓處理的時間范圍可以為10-15s。當保壓處理的時間小于10s時，保壓處理時間較短，無法起到顯著提高產(chǎn)品生產(chǎn)的穩(wěn)定性的效果；當保壓處理的時間大于15s時，保壓處理時間過長，造成能源和資材的浪費。65.s223：對經(jīng)過高壓成型處理的基材上的uv膠水進行第二光照固化處理66.根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，在該步驟對基材上處于半固化狀態(tài)的uv膠水進行第二光照固化處理，以令uv膠水完全固化，得到結(jié)構(gòu)穩(wěn)定的閃光砂層。第二光照固化處理的固化能量不受特別限制，例如第二光照固化處理的固化能量范圍可以為800-2000mj/cm2。當?shù)诙庹展袒幚淼墓袒芰啃∮?00mj/cm2時，無法將經(jīng)高壓處理后的基材上的uv膠水完全固化，無法滿足使用要求；當?shù)诙庹展袒幚淼墓袒芰看笥?000mj/cm2時，固化能量過大，遠高于第二光照固化處理uv膠水所需要的能量，造成能源的浪費；67.在本技術的又一個方面，本發(fā)明提出了一種殼體，殼體的至少一部分是由上述的板材形成的。可將具有閃光砂效果的板材制成與設備外殼相適應的形狀，以提升設備美觀度和握持手感。根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，殼體的結(jié)構(gòu)不受特別限制，例如殼體可具有主體部以及至少2個側(cè)壁，主體部以及側(cè)壁構(gòu)成容納空間，板材的閃光砂層位于背離容納空間的一側(cè)。當殼體為上述結(jié)構(gòu)時，68.在本技術的又一方面，本技術提出了一種電子設備，參考圖10，包括：殼體1500，殼體1500限定出容納空間，殼體1500為上述的殼體，主板和顯示屏(圖中未示出)，主板與顯示屏電連接，并位于容納空間內(nèi)部。由此可為該電子設備提供較好的視覺效果以及手握觸感。69.根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，上述電子設備可以為移動或便攜式并執(zhí)行無線通信的各種類型的計算機系統(tǒng)設備中的任何一種。具體的，電子設備可以為移動電話或智能電話(例如，基于iphonetm，基于androidtm的電話)，便攜式游戲設備(例如nintendodstm，playstationportabletm，gameboyadvancetm，iphonetm)、膝上型電腦、pda、便攜式互聯(lián)網(wǎng)設備、音樂播放器以及數(shù)據(jù)存儲設備，其他手持設備以及諸如手表、入耳式耳機、吊墜、頭戴式耳機等，電子設備還可以為其他的可穿戴設備(例如，諸如電子眼鏡、電子衣服、電子手鐲、電子項鏈、電子紋身或智能手表的頭戴式設備(hmd))。70.下面通過具體的實施例對本技術的方案進行說明，需要說明的是，下面的實施例僅用于說明本技術，而不應視為限定本技術的范圍。實施例中未注明具體技術或條件的，按照本領域內(nèi)的文獻所描述的技術或條件或者按照產(chǎn)品說明書進行。所用試劑或儀器未注明生產(chǎn)廠商者，均為可以通過市購獲得的常規(guī)產(chǎn)品。71.實施例172.1.選取聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯共擠出成型塑料作為基材。73.2.將uv膠水置于閃光砂模板上，令uv膠水與閃光砂模板上的紋理接觸。74.3.將基材置于uv膠水上，令基材聚甲基丙烯酸甲酯的一側(cè)與uv膠水接觸。75.4.自閃光砂模板一側(cè)對uv膠水進行光照固化處理，光照固化處理的固化能量為1500mj/cm2。76.5.將基材取下并進行cnc加工，獲得殼體。77.結(jié)果表明：殼體為2d或2.5d結(jié)構(gòu)，具有閃光砂層，閃光砂層的厚度為10微米，表面粗糙度為2微米，60度光澤測試為10gu，霧度為55％，光照條件下殼體具有閃光砂效果，握持手感較好。78.實施例2：79.1.選取聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯共擠出成型塑料作為基材。80.2.將uv膠水置于閃光砂模板上，令uv膠水與閃光砂模板上的紋理接觸。81.3.將基材置于uv膠水上，令基材聚甲基丙烯酸甲酯的一側(cè)與uv膠水接觸。82.4.利用滾輪自基材的第二表面一側(cè)對基材進行滾壓處理，同時對uv膠水進行第一光照固化處理，第一光照固化處理的固化能量為150mj/cm2。83.5.對經(jīng)過第一光照固化處理的基材進行高壓成型處理，高壓成型處理包括：先在400攝氏度對基材進行軟化處理25s；再將經(jīng)過軟化處理的基材置于模具中，并向模具內(nèi)通入氣體實現(xiàn)密封，并進行保壓處理，保壓處理的溫度為135攝氏度，模內(nèi)氣壓為6.5mpa，時間為13s。84.6.對經(jīng)過高壓成型處理的基材上的uv膠水進行第二光照固化處理，第二光照固化處理的固化能量為1400mj/cm2。85.7.將基材取下并進行cnc加工，獲得殼體。86.結(jié)果表明：殼體為3d結(jié)構(gòu)，殼體具有主體部以及2個側(cè)壁，具有閃光砂層，閃光砂層的厚度為9微米，表面粗糙度為1.8微米，60度光澤測試為15gu，霧度為60％，光照條件下殼體具有閃光砂效果，握持手感較好。87.在本說明書的描述中，參考術語“一個實施例”、“另一個實施例”等的描述意指結(jié)合該實施例描述的具體特征、結(jié)構(gòu)、材料或者特點包含于本技術的至少一個實施例中。在本說明書中，對上述術語的示意性表述不必須針對的是相同的實施例或?qū)嵤├６遥枋龅木唧w特征、結(jié)構(gòu)、材料或者特點可以在任一個或多個實施例或?qū)嵤├幸院线m的方式結(jié)合。此外，在不相互矛盾的情況下，本領域的技術人員可以將本說明書中描述的不同實施例或?qū)嵤├约安煌瑢嵤├驅(qū)嵤├奶卣鬟M行結(jié)合和組合。88.盡管上面已經(jīng)示出和描述了本技術的實施例，可以理解的是，上述實施例是實施例性的，不能理解為對本技術的限制，本領域的普通技術人員在本技術的范圍內(nèi)可以對上述實施例進行變化、修改、替換和變型。當前第1頁12當前第1頁12
技術特征：
1.一種板材，其特征在于，包括：基材，所述基材包括相對設置的第一表面和第二表面；閃光砂層，所述閃光砂層形成于所述第一表面一側(cè)，所述閃光砂層具有相對設置的兩個表面，其中朝向所述基材一側(cè)的表面具有均一的高度，遠離所述基材的一側(cè)表面包括凸起或凹陷，且所述凸起或凹陷具有棱狀部。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的板材，其特征在于，所述閃光砂層是由uv膠水形成的。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的板材，其特征在于，所述閃光砂層的硬度不小于2h。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的板材，其特征在于，所述閃光砂層滿足以下條件的至少之一：表面粗糙度為1.5-2.5微米；60度光澤測試為5-20gu；霧度為50％-70％。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的板材，其特征在于，所述閃光砂層滿足以下條件的至少之一：所述凸起或所述凹陷構(gòu)造為六方晶型、立方晶型、三方晶型和四方晶型中的至少一種；進一步具有尖狀部。6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的板材，其特征在于，所述閃光砂層的厚度為5-15微米，所述凸起或凹陷的高度為1.5-2.5微米。7.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一項所述的板材，其特征在于，所述第一表面是由聚甲基丙烯酸甲酯形成的，所述第二表面是由聚碳酸酯形成的。8.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一項所述的板材，其特征在于，進一步包括：裝飾層，所述裝飾層位于所述第二表面遠離所述第一表面的一側(cè)。9.一種制備1-8任一項所述的板材的方法，其特征在于，包括：提供基材；在所述基材的第一表面一側(cè)形成閃光砂層，形成所述閃光砂層包括在利用轉(zhuǎn)印模具在所述閃光砂層遠離所述第一表面的一側(cè)轉(zhuǎn)印形成凸起或凹陷。10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，所述閃光砂層是由uv膠水形成的，形成所述閃光砂層包括：將所述uv膠水置于閃光砂模板上，所述閃光砂模板上具有用于形成所述凸起或凹陷的紋理，令所述uv膠水與所述紋理接觸；將所述基材置于所述uv膠水上，令所述第一表面與所述uv膠水接觸；對所述uv膠水進行光照固化處理，以形成所述閃光砂層。11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，令所述第一表面與所述uv膠水接觸之后進一步包括：利用滾輪自所述基材的第二表面一側(cè)對所述基材進行滾壓處理，同時自所述閃光砂模板一側(cè)對所述uv膠水進行光照固化處理。12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其特征在于，所述光照固化處理的固化能量為800-2200mj/cm2。13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其特征在于，包括：利用滾輪自所述基材的第二表面一側(cè)對所述基材進行滾壓處理，同時對所述uv膠水進行第一光照固化處理，所述第一光照固化處理的固化能量為100-200mj/cm2；
對經(jīng)過所述第一光照固化處理的所述基材進行高壓成型處理，以形成包括主體面和至少2個側(cè)壁的結(jié)構(gòu)；對經(jīng)過所述高壓成型處理的所述基材上的所述uv膠水進行第二光照固化處理，所述第二光照固化處理的固化能量為800-2000mj/cm2。14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，其特征在于，所述高壓成型處理包括：對所述基材進行軟化處理，所述軟化處理的溫度為350-450攝氏度，時間為15-30s；將經(jīng)過所述軟化處理的所述基材置于模具中，并向所述模具內(nèi)通入氣體并實現(xiàn)密封，并進行保壓處理，所述保壓處理時所述模具的溫度為130-140攝氏度，模內(nèi)氣壓為6-7mpa，時間為10-15s。15.一種殼體，其特征在于，所述殼體的至少一部分是由權(quán)利要求1-8任一項所述的板材形成的。16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的殼體，其特征在于，所述殼體具有主體部以及至少2個側(cè)壁，所述主體部以及所述側(cè)壁構(gòu)成容納空間，所述板材的閃光砂層位于背離所述容納空間的一側(cè)。17.一種電子設備，其特征在于，包括：殼體，所述殼體限定出容納空間，所述殼體為權(quán)利要求15-16任一項所述的，主板和顯示屏，所述主板與所述顯示屏電連接，并位于所述容納空間內(nèi)部。
技術總結(jié)
本申請公開了板材、制備板材的方法、殼體和電子設備，包括：基材，基材包括相對設置的第一表面和第二表面；閃光砂層，閃光砂層形成于第一表面一側(cè)，閃光砂層具有相對設置的兩個表面，其中朝向所述基材一側(cè)的表面具有均一的高度，遠離基材的一側(cè)表面包括凸起或凹陷，且凸起或凹陷具有棱狀部。由此，可通過閃光砂層的設置提高板材的美觀度和手感。設置提高板材的美觀度和手感。設置提高板材的美觀度和手感。
