擋水輪組及蝕刻裝置的制作方法
1.本技術(shù)涉及擋水輪組及蝕刻裝置。
背景技術(shù)：
2.電路板一般由覆銅基板經(jīng)裁切、鉆孔、鍍銅、曝光、顯影、蝕刻、壓合、印刷、成型等一系列制程制作而成。蝕刻是電路板制作的重要制程，其主要使用蝕刻裝置對(duì)待蝕刻電路板表面的銅箔層進(jìn)行選擇性蝕刻以形成線路圖形。
3.一般情況下，蝕刻裝置包括蝕刻槽體、傳送滾輪及藥水噴淋器，所述傳送滾輪設(shè)置于蝕刻槽體內(nèi)，用于傳送待蝕刻的電路板，所述藥水噴淋器設(shè)置于傳送滾輪的上方，用于朝向待該蝕刻電路板噴淋蝕刻藥水，所述蝕刻槽體的側(cè)方設(shè)置有進(jìn)料口及出料口，該進(jìn)料口用于供待蝕刻的電路板進(jìn)入該蝕刻槽體，該出料口用于供蝕刻完的電路板移出該蝕刻槽體。但是，噴淋過(guò)程中產(chǎn)生的小顆粒藥水也容易從該進(jìn)口及該出口逸出，不僅造成藥水的浪費(fèi)，還影響下一制程進(jìn)行。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
4.鑒于以上內(nèi)容，有必要提供一種擋水輪組，以解決上述問(wèn)題。
5.另外，還有必要提供一種具有上述擋水輪組的蝕刻裝置。
6.一種擋水輪組，包括第一輥輪及第二輥輪，所述第一輥輪包括第一本體及第一凸輪，所述第一凸輪設(shè)置于所述第一本體的外周，所述第一本體設(shè)置有第一凹槽。所述第二輥輪包括第二本體及第二凸輪，所述第二凸輪設(shè)置于所述第二本體的外周，所述第二本體設(shè)置有第二凹槽。所述擋水輪組包括閉合狀態(tài)及打開(kāi)狀態(tài)，所述閉合狀態(tài)包括所述第一凸輪容置于所述第二凹槽內(nèi)，所述第二凸輪容置于所述第一凹槽內(nèi)，所述第一本體的外周密接所述第二本體的外周。所述打開(kāi)狀態(tài)包括所述第一凸輪退出所述第二凹槽，所述第二凸輪退出所述第二凹槽，所述第一本體與所述第二本體間隔設(shè)置。
7.進(jìn)一步地，還包括升降機(jī)構(gòu)，所述升降機(jī)構(gòu)傳動(dòng)連接所述第一輥輪與所述第二輥輪，所述升降機(jī)構(gòu)用于帶動(dòng)所述擋水輪組于所述閉合狀態(tài)和所述打開(kāi)狀態(tài)之間切換。
8.進(jìn)一步地，還包括驅(qū)動(dòng)件，所述第一輥輪具有第一旋轉(zhuǎn)軸，所述第二輥輪具有第二旋轉(zhuǎn)軸，所述驅(qū)動(dòng)件傳動(dòng)連接所述第一輥輪以驅(qū)動(dòng)所述第一輥輪繞所述第一旋轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動(dòng)，所述驅(qū)動(dòng)件還傳動(dòng)連接所述第二輥輪以驅(qū)動(dòng)所述第二輥輪繞所述第二旋轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動(dòng)。
9.進(jìn)一步地，還包括位置傳感器及控制單元，所述控制單元電性連接所述位置傳感器、所述升降機(jī)構(gòu)及所述驅(qū)動(dòng)件，所述傳感器用于感測(cè)電路板的位置信息，所述控制單元依據(jù)所述位置信息控制所述升降機(jī)構(gòu)和所述驅(qū)動(dòng)件的停啟。
10.進(jìn)一步地，所述第一本體與所述第一凸輪為一體成型結(jié)構(gòu)，所述第二本體與所述第二凸輪為一體成型結(jié)構(gòu)。
11.進(jìn)一步地，所述第一凸輪可拆卸地套設(shè)于所述第一本體的外周，所述第二凸輪可拆卸地套設(shè)與所述第二本體的外周。
12.進(jìn)一步地，所述第一凸輪與所述第二凸輪的截面呈方形或者半圓形。
13.一種蝕刻裝置，包括槽體、傳送組件、噴淋組件及如上所述的擋水輪組。所述傳送組件設(shè)置于所述槽體內(nèi)，所述傳送組件用于運(yùn)送待蝕刻的電路板。所述噴淋組件設(shè)置于所述傳送組件上方，所述噴淋組件用于朝向所述待蝕刻的電路板噴灑蝕刻藥水。所述槽體設(shè)置有進(jìn)料口及出料口，所述擋水輪組蓋設(shè)于所述進(jìn)料口和所述出料口。
14.進(jìn)一步地，所述傳送組件與所述擋水輪組并排設(shè)置。
15.進(jìn)一步地，所述槽體包括底板及多個(gè)側(cè)板，所述側(cè)板圍設(shè)于所述底板的同側(cè)，所述側(cè)板貫穿形成有所述進(jìn)料口與所述出料口。
16.本技術(shù)提供的通過(guò)在所述第一本體上設(shè)置可容置所述第二凸輪的所述第一凹槽，以及在所述第二本體上設(shè)置可容置所述第一凸輪的所述第二凹槽，從而有利于所述擋水輪組完全封閉所述進(jìn)料口和所述出料口，減少藥水的浪費(fèi)以及污染。
附圖說(shuō)明
17.圖1為本技術(shù)一實(shí)施例提供的蝕刻裝置的示意圖。
18.圖2為本技術(shù)一實(shí)施例提供處于閉合狀態(tài)的擋水輪組的示意圖。
19.圖3為本技術(shù)一實(shí)施例提供的處于打開(kāi)狀態(tài)的擋水輪組的示意圖。
20.圖4為本技術(shù)另一實(shí)施例提供的擋水輪組的視圖。
21.主要元件符號(hào)說(shuō)明
22.蝕刻裝置
???????
100
23.槽體
???????????
10
24.底板
???????????
11
25.側(cè)板
???????????
12
26.進(jìn)料口
?????????
121
27.出料口
?????????
122
28.傳送組件
???????
20
29.噴淋組件
???????
30
30.擋水輪組
???????
40、60
31.第一輥輪
???????
41
32.第一本體
???????
411
33.第一凸輪
???????
412、414
34.第一凹槽
???????
413
35.第二輥輪
???????
42
36.第二本體
???????
421
37.第二凸輪
???????
422、424
38.第二凹槽
???????
423
39.升降機(jī)構(gòu)
???????
43
40.驅(qū)動(dòng)件
?????????
44
41.傳感器
?????????
45
42.控制單元
???????
46
43.電路板
?????????
200
44.容置空間
???????r45.閉合狀態(tài)
???????b46.打開(kāi)狀態(tài)
???????d47.第一轉(zhuǎn)軸
???????o48.第二轉(zhuǎn)軸
???????
p
49.間隙
???????????j50.有效區(qū)
?????????
x
51.接觸區(qū)
?????????y52.如下具體實(shí)施方式將結(jié)合上述附圖進(jìn)一步說(shuō)明本技術(shù)。
具體實(shí)施方式
53.下面將結(jié)合本技術(shù)實(shí)施例中的附圖，對(duì)本技術(shù)實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅是本技術(shù)一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。
54.請(qǐng)參見(jiàn)圖1，本技術(shù)實(shí)施例提供一種蝕刻裝置100，所述蝕刻裝置100用于對(duì)待蝕刻的所述電路板200的銅箔層進(jìn)行選擇性蝕刻以形成線路層。
55.所述蝕刻裝置100包括槽體10、傳送組件20、噴淋組件30及擋水輪組40。所述槽體10大致呈盒狀，所述槽體10包括底板11及多個(gè)側(cè)板12，所述側(cè)板12圍設(shè)于所述底板11的周?chē)孕纬扇葜每臻gr。所述傳送組件20設(shè)置于所述容置空間r內(nèi)，所述傳送組件20用于運(yùn)送待蝕刻的所述電路板200。所述噴淋組件30設(shè)置于所述傳送組件20的上方，所述噴淋組件30用于朝待蝕刻的所述電路板200噴淋蝕刻藥水，所述蝕刻藥水蝕刻待蝕刻的所述電路板200使得銅箔層以形成線路層。所述側(cè)板12貫穿設(shè)置有進(jìn)料口121及與所述進(jìn)料口121相對(duì)的出料口122，所述進(jìn)料口121用于供待蝕刻的所述電路板200進(jìn)入所述容置空間r，所述出料口122用于供蝕刻完的所述電路板200運(yùn)出所述容置空間r。所述擋水輪組40與所述傳送組件20并排設(shè)置于所述容置空間r內(nèi)，且所述擋水輪組40蓋設(shè)于所述進(jìn)料口121與所述出料口122。
56.請(qǐng)參見(jiàn)圖2，在本實(shí)施例中，所述擋水輪組40包括第一輥輪41及第二輥輪42。所述第一輥輪41包括第一本體411及多個(gè)第一凸輪412，所述第一本體411大致呈圓柱狀，所述第一凸輪412大致呈環(huán)狀，所述第一凸輪412套設(shè)于所述第一本體411的外周，所述第一本體411的外側(cè)內(nèi)凹形成多個(gè)第一凹槽413。所述第二輥輪42與所述第一輥輪41的結(jié)構(gòu)類似，所述第二輥輪42包括第二本體421及多個(gè)第二凸輪422，所述第二本體421大致呈圓柱狀，所述第二凸輪422大致呈環(huán)狀，所述第二凸輪422套設(shè)于所述第二本體421的外周，所述第二本體421的外側(cè)內(nèi)凹形成多個(gè)第二凹槽423。其中，所述第一凸輪412可容置于所述第二凹槽423內(nèi)，所述第二凸輪422可容置于所述第一凹槽413內(nèi)，使得所述第一本體411的外周與所述第二本體421的外周可以緊密連接。
57.請(qǐng)一并參見(jiàn)圖2及圖3，具體使用時(shí)，所述擋水輪組40包括閉合狀態(tài)b及打開(kāi)狀態(tài)d，當(dāng)處于閉合狀態(tài)b時(shí)，所述第一凸輪412容置于所述第二凹槽423內(nèi)，所述第二凸輪422容置于所述第一凹槽413內(nèi)，所述第一本體411的外周密接于所述第二本體421的外周。此時(shí)所述擋水輪組40密封所述進(jìn)料口121與所述出料口122，待蝕刻的所述電路板200僅可以在所述
容置空間r內(nèi)移動(dòng)，同時(shí)，所述噴淋組件30噴出的藥水將不能從所述進(jìn)料口121及所述出料口122逸出。當(dāng)處于打開(kāi)狀態(tài)d時(shí)，所述第一本體411與所述第二本體421間隔設(shè)置，即所述第一本體411與所述第二本體421之間存在間隙j，且第一凸輪412退出所述第二凹槽423，所述第二凸輪422退出所述第一凹槽413，待蝕刻的所述電路板200可以由所述進(jìn)料口121進(jìn)入所述間隙j，所述電路板200沿延伸方向e劃分為多個(gè)有效區(qū)x及多個(gè)接觸區(qū)y，所述有效區(qū)x設(shè)置有容易受損的線路層(圖未示)，所述接觸區(qū)y未設(shè)置有線路層。所以，所述第一凸輪412與所述第二凸輪422與所述電路板200的所述接觸區(qū)y進(jìn)行滾動(dòng)接觸，進(jìn)而帶動(dòng)待蝕刻的所述電路板200進(jìn)入所述容置空間r，或者蝕刻完成的電路板200依次經(jīng)過(guò)所述間隙j及所述出料口122而被送出所述容置空間r。
58.本技術(shù)提供的通過(guò)在所述第一本體411上設(shè)置可容置所述第二凸輪422的所述第一凹槽413，以及在所述第二本體421上設(shè)置可容置所述第一凸輪412的所述第二凹槽423，使得第一本體411的外周與所述第二本體421的外周可以緊密相接，從而有利于所述擋水輪組40完全封閉所述進(jìn)料口121和所述出料口122，減少藥水的浪費(fèi)以及污染。同時(shí)，通過(guò)所述第一凸輪412和所述第二凸輪422與所述電路板200滾動(dòng)接觸，有利于減少第一輥輪41或所述第二輥輪42與所述電路板200的整體接觸面積，減少對(duì)所述電路板200的刮傷以及粘連異物的風(fēng)險(xiǎn)。
59.在本實(shí)施例中，所述第一本體411與所述第一凸輪412為一體成型結(jié)構(gòu)，所述第二本體421與所述第二凸輪422為一體成型結(jié)構(gòu)，所述第一凸輪412與所述第二凸輪422的截面呈方形。請(qǐng)參見(jiàn)圖4，本技術(shù)的另一實(shí)施例提供另一種擋水輪組60，其中，所述第一凸輪414可拆卸地套設(shè)于所述第一本體411的外周，所述第二凸輪424可拆卸地套設(shè)與所述第二本體421的外周，所述第一凸輪414與所述第二凸輪424形狀大致與“o”型圈相同，所述第一凸輪414與所述第二凸輪424的截面呈半圓形。從而所述第一凸輪414或所述第二凸輪424與待蝕刻的電路板200具有更小的接觸面積。
60.在本實(shí)施例中，所述擋水輪組40還包括升降機(jī)構(gòu)43，所述升降機(jī)構(gòu)43傳動(dòng)連接所述第一輥輪41與所述第二輥輪42，以帶動(dòng)所述擋水輪組40于閉合狀態(tài)b和打開(kāi)狀態(tài)d之間切換。在一些實(shí)施例中，所述升降機(jī)構(gòu)43包括液壓升降機(jī)、電動(dòng)升降機(jī)、氣動(dòng)升降機(jī)中的一種。
61.在實(shí)施例中，所述擋水輪組40還包括驅(qū)動(dòng)件44，所述驅(qū)動(dòng)件44傳動(dòng)連接所述第一輥輪41與所述第二輥輪42。所述第一輥輪41具有第一轉(zhuǎn)軸o，所述第二輥輪42具有第二轉(zhuǎn)軸p，所述第一轉(zhuǎn)軸o與所述第二轉(zhuǎn)軸p大致平行設(shè)置。所述驅(qū)動(dòng)件44帶動(dòng)所述第一輥輪41繞第一轉(zhuǎn)軸o轉(zhuǎn)動(dòng)，所述驅(qū)動(dòng)件44還帶動(dòng)所述第二輥輪42繞所述第二轉(zhuǎn)軸p轉(zhuǎn)動(dòng)，從而驅(qū)動(dòng)所述電路板200移動(dòng)。在一些實(shí)施例中，所述驅(qū)動(dòng)件44包括伺服電機(jī)、步進(jìn)電機(jī)及內(nèi)燃機(jī)中的一種。
62.在本實(shí)施例中，所述擋水輪組40還包括傳感器45及控制單元46。所述控制單元46電性連接所述傳感器45、所述升降機(jī)構(gòu)43和所述驅(qū)動(dòng)件44。所述傳感器45設(shè)置于所述傳送組件20，所述傳感器45用于感測(cè)所述電路板200的位置信息并將該位置信息傳輸給所述控制單元46，該位置信息包括第一位置信息和第二位置信息。所述第一位置信息為“所述電路板200距離所述第一輥輪41或所述第二輥輪42的最小距離小于5cm”，所述第二位置信息為“所述電路板200距離所述第一輥輪41或所述第二輥輪42的最小距離大于5cm”。所述控制單元46依據(jù)該位置信息控制所述升降機(jī)構(gòu)43及所述驅(qū)動(dòng)件44的啟動(dòng)與停止，具體地，若所述
控制單元46接收到第一位置信息時(shí)，所述控制單元46控制所述升降機(jī)構(gòu)43開(kāi)始工作，至所述擋水輪組40處于打開(kāi)狀態(tài)d，所述控制單元46控制所述驅(qū)動(dòng)件44開(kāi)始工作，至所述電路板200完全移出所述容置空間r。若所述控制單元46接受到第二位置信息時(shí)，所述控制單元46控制所述升降機(jī)構(gòu)43及所述驅(qū)動(dòng)件44不工作，所述擋水輪組40處于閉合狀態(tài)b，從而實(shí)現(xiàn)所述擋水輪組40的自動(dòng)化控制。在一些實(shí)施例中，所述傳感器45可以為激光測(cè)距儀，所述控制單元46可以為中央處理單元(central processing unit，cpu)，還可以是其他通用處理器、數(shù)字信號(hào)處理器(digital signal processor，dsp)、專用集成電路(application specific integrated circuit，asic)等。
63.另外，本領(lǐng)域技術(shù)人員還可在本技術(shù)精神內(nèi)做其它變化，當(dāng)然，這些依據(jù)本技術(shù)精神所做的變化，都應(yīng)包含在本技術(shù)所要求保護(hù)的范圍。
技術(shù)特征：
1.一種擋水輪組，其特征在于，包括第一輥輪及第二輥輪，所述第一輥輪包括第一本體及第一凸輪，所述第一凸輪設(shè)置于所述第一本體的外周，所述第一本體設(shè)置有第一凹槽；所述第二輥輪包括第二本體及第二凸輪，所述第二凸輪設(shè)置于所述第二本體的外周，所述第二本體設(shè)置有第二凹槽；所述擋水輪組包括閉合狀態(tài)及打開(kāi)狀態(tài)，所述閉合狀態(tài)為所述第一凸輪容置于所述第二凹槽內(nèi)，所述第二凸輪容置于所述第一凹槽內(nèi)，所述第一本體的外周接觸所述第二本體的外周；所述打開(kāi)狀態(tài)為所述第一凸輪脫離所述第二凹槽，所述第二凸輪脫離所述第二凹槽，且所述第一本體與所述第二本體間隔設(shè)置。2.如權(quán)利要求1所述的擋水輪組，其特征在于，還包括升降機(jī)構(gòu)，所述升降機(jī)構(gòu)傳動(dòng)連接所述第一輥輪與所述第二輥輪，所述升降機(jī)構(gòu)用于帶動(dòng)所述擋水輪組于所述閉合狀態(tài)和所述打開(kāi)狀態(tài)之間切換。3.如權(quán)利要求2所述的擋水輪組，其特征在于，還包括驅(qū)動(dòng)件，所述第一輥輪具有第一旋轉(zhuǎn)軸，所述第二輥輪具有第二旋轉(zhuǎn)軸，所述驅(qū)動(dòng)件傳動(dòng)連接所述第一輥輪以用于驅(qū)動(dòng)所述第一輥輪繞所述第一旋轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動(dòng)，所述驅(qū)動(dòng)件還傳動(dòng)連接所述第二輥輪以用于驅(qū)動(dòng)所述第二輥輪繞所述第二旋轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動(dòng)。4.如權(quán)利要求3所述的擋水輪組，其特征在于，還包括位置傳感器及控制單元，所述控制單元電性連接所述位置傳感器、所述升降機(jī)構(gòu)及所述驅(qū)動(dòng)件，所述傳感器用于感測(cè)電路板的位置信息，所述控制單元依據(jù)所述位置信息控制所述升降機(jī)構(gòu)和所述驅(qū)動(dòng)件開(kāi)始運(yùn)行或停止運(yùn)行。5.如權(quán)利要求1所述的擋水輪組，其特征在于，所述第一本體與所述第一凸輪為一體成型結(jié)構(gòu)，所述第二本體與所述第二凸輪為一體成型結(jié)構(gòu)。6.如權(quán)利要求1所述的擋水輪組，其特征在于，所述第一凸輪可拆卸地套設(shè)于所述第一本體的外周，所述第二凸輪可拆卸地套設(shè)與所述第二本體的外周。7.如權(quán)利要求1所述的擋水輪組，其特征在于，所述第一凸輪與所述第二凸輪的截面呈方形或者半圓形。8.一種蝕刻裝置，其特征在于，包括槽體、傳送組件、噴淋組件及如權(quán)利要求1至7任意一項(xiàng)所述的擋水輪組；所述傳送組件設(shè)置于所述槽體內(nèi)，所述傳送組件用于運(yùn)送待蝕刻的電路板；所述噴淋組件設(shè)置于所述傳送組件上方，所述噴淋組件用于朝向所述待蝕刻的電路板噴灑蝕刻藥水；所述槽體設(shè)置有進(jìn)料口及出料口，所述擋水輪組蓋設(shè)于所述進(jìn)料口和所述出料口。9.如權(quán)利要求8所述的蝕刻裝置，其特征在于，所述傳送組件與所述擋水輪組并排設(shè)置。10.如權(quán)利要求8所述的蝕刻裝置，其特征在于，所述槽體包括底板及多個(gè)側(cè)板，所述側(cè)板圍設(shè)于所述底板的同側(cè)，所述側(cè)板貫穿形成有所述進(jìn)料口與所述出料口。
技術(shù)總結(jié)
本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N擋水輪組，包括第一輥輪及第二輥輪。第一輥輪包括第一本體及第一凸輪，第一凸輪設(shè)置于第一本體的外周，第一本體設(shè)置有第一凹槽。第二輥輪包括第二本體及第二凸輪，第二凸輪設(shè)置于第二本體的外周，第二本體設(shè)置有第二凹槽。擋水輪組包括閉合狀態(tài)及打開(kāi)狀態(tài)，閉合狀態(tài)為第一凸輪容置于第二凹槽內(nèi)，第二凸輪容置于第一凹槽內(nèi)，第一本體的外周密接第二本體的外周；打開(kāi)狀態(tài)為第一凸輪退出第二凹槽，第二凸輪退出第二凹槽，第一本體與第二本體間隔設(shè)置。本申請(qǐng)?zhí)峁┑膿跛喗M可以阻擋藥水外逸，減少浪費(fèi)及污染。另外，本申請(qǐng)還提供一種蝕刻裝置。供一種蝕刻裝置。供一種蝕刻裝置。
