一種卷繞鍍膜工藝氣體護(hù)板的制作方法
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1.本實(shí)用新型涉及卷繞鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種防護(hù)治具技術(shù)結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)：
2.隨著光學(xué)薄膜行業(yè)的快速發(fā)展，為實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品的特定光學(xué)性能，同時(shí)又能大量生產(chǎn)，卷對(duì)卷鍍膜技術(shù)日趨發(fā)展成熟。卷對(duì)卷磁控濺射鍍膜通常是生產(chǎn)光學(xué)薄膜類產(chǎn)品，將卷材通過(guò)多個(gè)傳送滾輪完成上料-鍍膜-收料的過(guò)程。磁控濺射鍍膜即將特定靶材在一定工藝氣體的作用下在光學(xué)薄膜表面形成鍍膜層，工藝氣體以直噴的方式在兩個(gè)靶材周圍分布，這種方式導(dǎo)致氣體的分布不均勻，繼而導(dǎo)致鍍膜膜厚有差異，同時(shí)由于工藝氣體管道的氣孔上方無(wú)遮擋導(dǎo)致隨鍍膜時(shí)間增加，鍍層易堵塞氣孔。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
3.為了解決上述問(wèn)題，本實(shí)用新型提出提供一種卷繞鍍膜工藝氣體護(hù)板。
4.為了實(shí)現(xiàn)以上目的，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案為：
5.一種卷繞鍍膜工藝氣體護(hù)板，包括設(shè)置在工藝氣體管道的氣孔上方的護(hù)板、設(shè)置于護(hù)板下方的用于連接的定位銷、設(shè)置于護(hù)板上方的噴砂層，所述護(hù)板與工藝氣體管道的氣孔之間留有間隙。
6.本實(shí)用新型的進(jìn)一步技術(shù)：
7.優(yōu)選的，所述護(hù)板上長(zhǎng)邊兩側(cè)設(shè)置了彎邊，所述彎邊上設(shè)有導(dǎo)氣槽。
8.優(yōu)選的，所述彎邊的彎曲角度為30
°
。
9.本實(shí)用新型具有以下有益效果：
10.本實(shí)用新型的護(hù)板可有效保護(hù)卷繞鍍膜工藝氣體氣孔被濺射鍍層堵塞，導(dǎo)致鍍膜厚度不均勻，影響產(chǎn)品性能；
11.護(hù)板的增加，在工藝氣體以直噴的方式經(jīng)過(guò)護(hù)板向兩側(cè)擴(kuò)散，擴(kuò)散中產(chǎn)生混合，再經(jīng)過(guò)灣邊的導(dǎo)氣槽進(jìn)行二次混合，可增加工藝氣體混合的均勻性，提升膜層均勻性。
附圖說(shuō)明
12.為了更清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
13.圖1為一種卷繞鍍膜工藝氣體護(hù)板整體結(jié)構(gòu)示意圖；
14.圖2為一種卷繞鍍膜工藝氣體護(hù)板細(xì)節(jié)結(jié)構(gòu)示意圖；
15.圖3為一種卷繞鍍膜工藝氣體護(hù)板安裝結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式:
16.下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。
17.如圖1-3，本實(shí)用新型提供一種卷繞鍍膜工藝氣體護(hù)板，包括設(shè)置在工藝氣體管道的氣孔6上方的護(hù)板1，護(hù)板長(zhǎng)*寬*高：1400mm*40mm*2mm，設(shè)置于護(hù)板下方的用于連接的定位銷2，所述護(hù)板與工藝氣體管道的氣孔之間留有間隙，間隙為2mm。
18.所述護(hù)板上長(zhǎng)邊兩側(cè)設(shè)置了彎邊3和導(dǎo)氣槽4，減少了氣體的流出阻力。護(hù)板彎邊寬度3mm，角度30
°
。
19.所述定位銷可上下調(diào)節(jié)高度，結(jié)合工藝調(diào)整護(hù)板與工藝氣孔的間距。
20.護(hù)板上方設(shè)有噴砂層5，噴砂層厚度1mm，所述噴砂層可增加鍍層的附著力，減少鍍層被氣體或磁場(chǎng)作用后附著在產(chǎn)品表面，導(dǎo)致外觀不良。噴砂層可增加鍍層的附著力，減少鍍層被氣體或磁場(chǎng)作用后附著在產(chǎn)品表面，提升產(chǎn)品生產(chǎn)良率。
21.以上顯示和描述了本實(shí)用新型的基本原理、主要特征和本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)。本行業(yè)的技術(shù)人員應(yīng)該了解，本實(shí)用新型不受上述實(shí)施例的限制，上述實(shí)施例和說(shuō)明書中描述的只是說(shuō)明本實(shí)用新型的原理，在不脫離本實(shí)用新型精神和范圍的前提下，本實(shí)用新型還會(huì)有各種變化和改進(jìn)，這些變化和改進(jìn)都落入要求保護(hù)的本實(shí)用新型范圍內(nèi)。本實(shí)用新型要求保護(hù)范圍由所附的權(quán)利要求書及其等效物界定。
技術(shù)特征：
1.一種卷繞鍍膜工藝氣體護(hù)板，其特征在于：包括設(shè)置在工藝氣體管道的氣孔上方的護(hù)板、設(shè)置于護(hù)板下方的用于連接的定位銷、所述護(hù)板與工藝氣體管道的氣孔之間留有間隙。2.根據(jù)權(quán)利要求1中所述的一種卷繞鍍膜工藝氣體護(hù)板，其特征在于：所述護(hù)板上長(zhǎng)邊兩側(cè)設(shè)置了彎邊，所述彎邊上設(shè)有導(dǎo)氣槽。3.根據(jù)權(quán)利要求2中所述的一種卷繞鍍膜工藝氣體護(hù)板，其特征在于：所述彎邊的彎曲角度為30
°
。
技術(shù)總結(jié)
本實(shí)用新型公開(kāi)了一種卷繞鍍膜工藝氣體護(hù)板，包括設(shè)置在工藝氣體管道的氣孔上方的護(hù)板、設(shè)置于護(hù)板下方的用于連接的定位銷、設(shè)置于護(hù)板上方的噴砂層，所述護(hù)板與工藝氣體管道的氣孔之間留有間隙。本實(shí)用新型的護(hù)板可有效保護(hù)卷繞鍍膜工藝氣體氣孔被濺射鍍層堵塞，導(dǎo)致鍍膜厚度不均勻，影響產(chǎn)品性能，護(hù)板的增加，在工藝氣體以直噴的方式經(jīng)過(guò)護(hù)板向兩側(cè)擴(kuò)散，擴(kuò)散中產(chǎn)生混合，可增加工藝氣體混合的均勻性，提升膜層均勻性。提升膜層均勻性。提升膜層均勻性。
