蒸鍍掩模、組件、裝置、顯示裝置及其制造方法和裝置與流程
蒸鍍掩模、組件、裝置、顯示裝置及其制造方法和裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
1.本發(fā)明涉及光學(xué)掩模板技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種蒸鍍掩模、組件、裝置、顯示裝置及其制造方法和裝置。
背景技術(shù)：
2.近年來(lái)，智能手機(jī)和平板電腦等移動(dòng)終端上使用的顯示器要求非常精細(xì)(像素?cái)?shù):400ppi以上)。未來(lái)，面向移動(dòng)終端將被要求使用ultra high difinision(uhd，超高清分辨率)，并且預(yù)計(jì)將要求更高精細(xì)(像素?cái)?shù):800ppi)的oled面板。oled面板制造中需要使用蒸鍍掩模，為了對(duì)應(yīng)oled面板的高精細(xì)化，蒸鍍掩模也需要高精細(xì)化，采用厚度更小的蒸鍍掩模有利于提高精細(xì)化。
3.蒸鍍掩模通常由金屬卷材在其上表面和下表面分兩次相向刻蝕形成，且貫通孔尺寸由兩次刻蝕中形成的最小尺寸決定。參見圖1，現(xiàn)有的刻蝕方法中，當(dāng)金屬卷材的厚度大于40um時(shí)，第一次刻蝕的刻蝕量較大，其形成的第一凹部的懸掛尺寸t比開孔尺寸s大。參見圖2，只需控制第二次刻蝕的刻蝕量，使得x處的開孔尺寸大于或等于第一次刻蝕的開孔尺寸s，即可保證第一次刻蝕時(shí)的開孔尺寸s為貫通孔尺寸u，現(xiàn)有方法易于實(shí)現(xiàn)第一次刻蝕和第二次刻蝕的參數(shù)控制。參見圖3，當(dāng)金屬卷材的厚度為40um或更小的厚度時(shí)，現(xiàn)有技術(shù)的方法容易蝕穿金屬卷材，導(dǎo)致工藝失效。同時(shí)，現(xiàn)有的刻蝕方法，在金屬卷材厚度大于40um時(shí)，圖2中的金屬卷材上表面y至貫通孔的x的截面高度v控制在6um即可，但在金屬卷材的厚度小于或等于40um時(shí)，上述截面高度v需要控制在4um以下，現(xiàn)有刻蝕方法的第二次刻蝕難以實(shí)現(xiàn)該精度。因此，有必要提供一種在金屬卷材厚度t不大于40um的情況下避免第一次刻蝕直接蝕穿金屬卷材的蒸鍍掩模制造方法。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
4.本發(fā)明的目的在于提供一種蒸鍍掩模、蒸鍍掩模組件、蒸鍍掩模裝置、有機(jī)顯示裝置及蒸鍍掩模的制造方法和實(shí)現(xiàn)蒸鍍掩模制造方法的制造裝置，以解決蒸鍍掩模制造過(guò)程中，當(dāng)金屬卷材厚度不大于40um時(shí)容易第一次刻蝕蝕穿金屬卷材的問(wèn)題。
5.本發(fā)明的技術(shù)方案如下：一種蒸鍍掩模制造方法，所述蒸鍍掩模在蒸鍍材料向蒸鍍基板的蒸鍍中被使用，所述蒸鍍掩模包括：
6.第一面?zhèn)龋錁?gòu)成所述蒸鍍掩模面對(duì)所述蒸鍍基板的一側(cè)；
7.第二面?zhèn)龋錁?gòu)成所述蒸鍍掩模與所述第一面?zhèn)认喾吹囊粋?cè)；及
8.貫通孔，其貫穿所述第一面?zhèn)扰c所述第二面?zhèn)龋?br/>9.其特征在于，該方法包括步驟：
10.提供一包括上表面及與上表面相對(duì)的下表面的金屬卷材，所述金屬卷材的厚度t滿足關(guān)系式：5um≤t≤40um；
11.分別在所述金屬卷材的上表面及下表面真空貼合干膜光阻，通過(guò)曝光顯影將所述干膜光阻圖案化；
12.通過(guò)圖案化的所述干膜光阻刻蝕所述上表面形成第一面?zhèn)龋龅谝幻鎮(zhèn)戎辽侔ㄈ舾傻谝话疾浚龅谝话疾堪ǖ谝婚_口及第一刻蝕面，所述第一開口與所述上表面平齊，所述第一刻蝕面為自所述第一開口向所述下表面凹陷形成的面；
13.在所述第一面?zhèn)日婵召N合樹脂以填埋所述第一凹部；
14.通過(guò)圖案化的所述干膜光阻刻蝕所述下表面形成第二面?zhèn)龋龅诙鎮(zhèn)戎辽侔ㄈ舾傻诙疾浚龅诙疾肯蛩錾媳砻姘枷荩龅诙疾颗c所述第一凹部相貫穿形成貫通孔，且所述第一刻蝕面連接所述第一開口與所述貫通孔；定義一垂直所述上表面與所述下表面的縱截面，且所述第一開口的縱截面寬度為d，所述貫通孔的縱截面寬度為f，滿足關(guān)系式：1um≤d-f≤4um；
15.剝離所述樹脂及所述干膜光阻；
16.裁剪所述金屬卷材形成若干金屬片材；
17.剪裁所述金屬片材形成若干條狀的蒸鍍掩模。
18.更優(yōu)地，所述干膜光阻熱壓貼合于所述金屬卷材的上表面及下表面。
19.更優(yōu)地，所述干膜光阻通過(guò)熱壓貼合于所述金屬卷材的上表面及下表面之前，先對(duì)所述金屬卷材預(yù)加熱。
20.更優(yōu)地，所述干膜光阻包括第一干膜光阻和第二干膜光阻，所述第一干膜光阻熱壓貼合于所述金屬卷材的上表面，所述第二干膜光阻熱壓貼合于所述金屬卷材的下表面。
21.更優(yōu)地，所述樹脂為熱可塑性耐酸樹脂。
22.一種用于實(shí)施如上任一所述的蒸鍍掩模制造方法的制造裝置，其特征在于，所述制造裝置包括：
23.收卷機(jī)，其用于收卷及釋放金屬卷材，所述金屬卷材的厚度t滿足關(guān)系式：5um≤t≤40um；
24.第一貼合設(shè)備，其用于在金屬卷材的上表面及下表面真空貼合干膜光阻；
25.曝光設(shè)備，其用于對(duì)所述干膜光阻曝光；
26.顯影設(shè)備，其用于對(duì)所述干膜光阻顯影以實(shí)現(xiàn)圖案化；
27.第一刻蝕設(shè)備，其通過(guò)圖案化的所述干膜光阻刻蝕所述上表面形成第一面?zhèn)龋凰龅谝幻鎮(zhèn)戎辽侔ㄈ舾傻谝话疾浚龅谝话疾堪ǖ谝婚_口及第一刻蝕面，所述第一開口與所述上表面平齊，所述第一刻蝕面為自所述第一開口向所述下表面凹陷形成的面；
28.第二貼合設(shè)備，在所述第一面?zhèn)日婵召N合樹脂以填埋所述第一凹部；
29.第二刻蝕設(shè)備，其通過(guò)圖案化的所述干膜光阻刻蝕所述下表面形成第二面?zhèn)龋龅诙鎮(zhèn)戎辽侔ㄈ舾傻诙疾浚龅诙疾肯蛩錾媳砻姘枷荩龅诙疾颗c所述第一凹部相貫穿形成貫通孔，且所述第一刻蝕面連接所述第一開口與所述貫通孔；定義一垂直所述上表面與所述下表面的縱截面，且所述第一開口的縱截面寬度為d，所述貫通孔的縱截面寬度為f，滿足關(guān)系式：1um≤d-f≤4um；
30.剝離設(shè)備，其用于剝離所述樹脂及所述干膜光阻；
31.第一裁剪設(shè)備，其用于裁剪所述金屬卷材形成若干金屬片材；
32.第二裁剪設(shè)備，其用于剪裁所述金屬片材形成若干條狀的蒸鍍掩模。
33.更優(yōu)地，所述曝光設(shè)備為豎立式，所述金屬卷材自上而下通過(guò)所述曝光設(shè)備進(jìn)行曝光。
34.更優(yōu)地，所述曝光設(shè)備至少包括第一曝光掩模和第二曝光掩模，所述第一曝光掩模與所述第二曝光掩模間隔設(shè)置。
35.更優(yōu)地，在曝光之前，所述第一曝光掩模與所述第二曝光掩模先進(jìn)行位置對(duì)準(zhǔn)。
36.更優(yōu)地，所述第一曝光掩模與所述第二曝光掩模通過(guò)2um以下的對(duì)準(zhǔn)精度進(jìn)行位置對(duì)準(zhǔn)。
37.更優(yōu)地，所述第一曝光掩模與所述第二曝光掩模在曝光設(shè)備內(nèi)的周圍環(huán)境溫度t控制在：-2℃≤t≤2℃。
38.更優(yōu)地，所述第一貼合設(shè)備至少包括熱壓滾輪，所述干膜光阻通過(guò)所述熱壓滾輪熱壓貼合于所述金屬卷材。
39.更優(yōu)地，所述第一貼合設(shè)備還包括預(yù)加熱裝置，所述干膜光阻通過(guò)所述熱壓滾輪熱壓貼合于所述金屬卷材之前，所述金屬卷材通過(guò)預(yù)加熱裝置先進(jìn)行預(yù)加熱。
40.一種蒸鍍掩模，其通過(guò)如上所述的蒸鍍掩模制造方法制造獲得。
41.一種蒸鍍掩模組件，包括如上所述的一種蒸鍍掩模。
42.一種蒸鍍掩模裝置，包括如上所述的一種蒸鍍掩模組件。
43.一種有機(jī)顯示裝置，該有機(jī)顯示裝置通過(guò)如上所述的蒸鍍掩模裝置進(jìn)行蒸鍍獲得。
44.本發(fā)明的有益效果在于：通過(guò)限定蒸鍍掩模的第一開口的縱截面寬度為d，以及貫通孔的縱截面寬度為f，令其滿足關(guān)系式：1um≤d-f≤4um，使得蒸鍍掩模制造過(guò)程中，在金屬卷材厚度t不大于40um的情況下得以經(jīng)過(guò)兩次刻蝕形成貫通孔，避免第一次刻蝕直接蝕穿金屬卷材。
【附圖說(shuō)明】
45.圖1為本發(fā)明的蒸鍍掩模裝置結(jié)構(gòu)示意圖；
46.圖2為本發(fā)明的蒸鍍掩模組件結(jié)構(gòu)示意圖；
47.圖3為本發(fā)明的蒸鍍掩模掩模的第一面?zhèn)瘸系慕Y(jié)構(gòu)示意圖；
48.圖4為本發(fā)明的蒸鍍掩模掩模的第二面?zhèn)瘸系慕Y(jié)構(gòu)示意圖；
49.圖5為圖3中a-a處截面示意圖；
50.圖6為圖3中b-b處截面示意圖；
51.圖7為本發(fā)明的蒸鍍掩模制造方法流程示意圖；
52.圖8為本發(fā)明的第一貼合設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖；
53.圖9為本發(fā)明的曝光設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖；
54.圖10為本發(fā)明的顯影設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖；
55.圖11為本發(fā)明的金屬卷材在制造裝置內(nèi)的輸送順序流程示意圖；
56.圖12為本發(fā)明的步驟s20對(duì)應(yīng)的蒸鍍掩模結(jié)構(gòu)剖視圖；
57.圖13為本發(fā)明的步驟s40對(duì)應(yīng)的蒸鍍掩模結(jié)構(gòu)剖視圖；
58.圖14為本發(fā)明的步驟s50對(duì)應(yīng)的蒸鍍掩模結(jié)構(gòu)剖視圖；
59.圖15為本發(fā)明的步驟s60對(duì)應(yīng)的蒸鍍掩模結(jié)構(gòu)剖視圖；
60.圖16為本發(fā)明的步驟s70對(duì)應(yīng)的蒸鍍掩模結(jié)構(gòu)剖視圖。
【具體實(shí)施方式】
61.下面結(jié)合附圖和實(shí)施方式對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說(shuō)明。
62.(蒸鍍掩模裝置4000)
63.本實(shí)施例提供一種蒸鍍掩模裝置4000，參見圖1，所述蒸鍍掩模裝置4000包括：蒸鍍掩模組件1000、蒸鍍組件2000及蒸鍍基板3000，蒸鍍組件2000加熱產(chǎn)生氣化或升華的蒸鍍材料2300并通過(guò)蒸鍍掩模組件1000蒸鍍于蒸鍍基板3000上。
64.更優(yōu)地，參見圖2，所述蒸鍍掩模組件1000包括蒸鍍掩模100和框架200，所述框架200的中部設(shè)有貫通的貫通區(qū)域210，所述蒸鍍基板3000設(shè)置于所述貫通區(qū)域210內(nèi)，所述蒸鍍掩模100固定于所述框架200并與所述蒸鍍基板3000相緊密貼合，蒸鍍材料2300通過(guò)所述蒸鍍掩模100附著于與所述蒸鍍掩模100相貼合的蒸鍍基板3000上。
65.更優(yōu)地，蒸鍍基板3000為由玻璃材料制成，本實(shí)施例中，所述蒸鍍基板3000具體為設(shè)置有電極的電極玻璃。
66.更優(yōu)地，所述蒸鍍組件2000包括加熱器2100、坩堝2200及蒸鍍材料2300，所蒸鍍材料2300放置于坩堝2200內(nèi)，所述加熱器2100用于對(duì)坩堝2200加熱。具體地，所述蒸鍍材料2300為有機(jī)發(fā)光材料。加熱器2100加熱坩堝2200使蒸鍍材料2300發(fā)聲氣化或升華而上升，并通過(guò)蒸鍍掩模100緊密附著于蒸鍍基板3000面向蒸鍍組件2000的一面。本實(shí)施例中，蒸鍍基板3000為電極玻璃，電極玻璃的電極吸附氣化的蒸鍍材料2300，以提高蒸鍍效果。
67.(蒸鍍掩模組件1000)
68.本實(shí)施例提供一種蒸鍍掩模組件1000，用于構(gòu)成所述的蒸鍍掩模裝置4000的一部分，參見圖2，所述蒸鍍掩模組件1000包括框架200和蒸鍍掩模100，所述蒸鍍掩模100的數(shù)量為若干個(gè)，本實(shí)施例中，所述蒸鍍掩模100的數(shù)量為7個(gè)，7個(gè)條狀的蒸鍍掩模100間隔固定于框架200上。
69.更優(yōu)地，所述框架200為內(nèi)部貫通形成貫通區(qū)域210的矩形結(jié)構(gòu)，所述蒸鍍掩模100通過(guò)張網(wǎng)焊接于框架200上，且蒸鍍掩模100的有效區(qū)域110置于框架200的貫通區(qū)域210內(nèi)，框架200對(duì)蒸鍍掩模100起到支撐作用。本實(shí)施例中，所述框架200采用可被磁性吸附固定的金屬材質(zhì)。
70.更優(yōu)地，所述蒸鍍掩模100包括有效區(qū)域110、周圍區(qū)域120及固定區(qū)域130，一個(gè)條狀的蒸鍍掩模100上配置有若干個(gè)有效區(qū)域110，本實(shí)施例中，5個(gè)有效區(qū)域110間隔排列于蒸鍍掩模100上，所述周圍區(qū)域120圍繞所述有效區(qū)域110，其主要起到支撐有效區(qū)域110的作用，所述固定區(qū)域130與所述周圍區(qū)域120相連，所述固定區(qū)域130與所述框架200相固定。
71.更優(yōu)地，參見圖3和圖4，所述有效區(qū)域110配置有若干貫通孔30，蒸鍍材料2300通過(guò)所述貫通孔30緊密附著于蒸鍍基板3000，貫通孔30可以根據(jù)實(shí)際需求設(shè)計(jì)成若干任意大小、任意形狀并有機(jī)排列組合以獲得需要的圖案，蒸鍍材料2300向蒸鍍基板3000附著的過(guò)程可以理解為實(shí)際需要的圖案通過(guò)蒸鍍掩模100的有效區(qū)域110轉(zhuǎn)移至蒸鍍基板3000的過(guò)程。
72.(蒸鍍掩模100)
73.本實(shí)施例提供一種蒸鍍掩模100，用于構(gòu)成所述的蒸鍍掩模組件1000的一部分，參見圖2，所述蒸鍍掩模100包括有效區(qū)域110、周圍區(qū)域120及固定區(qū)域130，一個(gè)條狀的蒸鍍掩模100上配置有若干個(gè)有效區(qū)域110，所述周圍區(qū)域120圍繞所述有效區(qū)域110，所述固定
區(qū)域130與所述周圍區(qū)域120相連。所述蒸鍍掩模100由金屬卷材40經(jīng)刻蝕而成，本實(shí)施例中，所述金屬卷材40具體為鎳鐵合金，又稱因瓦合金(invar)，所述鎳鐵合金為熱膨脹系數(shù)約1ppm/℃為特征的36％鎳。
74.更優(yōu)地，參見圖3和圖4,，所述有效區(qū)域110包括第一面?zhèn)?0、第二面?zhèn)?0及貫通孔30，所述第一面?zhèn)?0構(gòu)成了所述蒸鍍掩模100面對(duì)所述蒸鍍基板3000的一側(cè)，所述第二面?zhèn)?0構(gòu)成了所述蒸鍍掩模100與所述第一面?zhèn)?0相反的一側(cè)，本實(shí)施例中，所述第二面?zhèn)?0面向所述蒸鍍組件2000，所述貫通孔30沿所述蒸鍍掩模100的厚度方向貫穿所述第一面?zhèn)?0與第二面?zhèn)?0。
75.具體地，所述貫通孔30的數(shù)量為多個(gè)，多個(gè)所述貫通孔30根據(jù)實(shí)際需求以一定的間隔排列于有效區(qū)域110內(nèi)，根據(jù)貫通孔30的大小、形狀及各貫通孔30之間有機(jī)排列組合的方式以將蒸鍍材料2300蒸鍍于蒸鍍基板3000上獲得需要的圖案。
76.具體地，參見圖3，所述第一面?zhèn)?0包括第一凹部11和第一支撐部12，所述第一凹部11圍繞所述貫通孔30，所述第一支撐部12為平面，所述第一支撐部12圍繞所述第一凹部11，且所述第一支撐部12用于與所述蒸鍍基板3000相貼合。
77.具體地，參見圖4，所述第二面?zhèn)?0包括第二凹部21和第二支撐部22，所述第二凹部21圍繞所述貫通孔30，所述第二凹部21的數(shù)量為多個(gè)。所述第二支撐部22為平面，第二支撐部22形成于多個(gè)所述第二凹部21之間，且所述第二支撐部22在第一面?zhèn)?0的投影位于第一支撐部12內(nèi)，本實(shí)施例中，4個(gè)所述第二凹部21圍繞形成1個(gè)第二支撐部22，且所述第二支撐部22向背離所述第一面?zhèn)?0的方向延伸，所述第二支撐部22至第一面?zhèn)?0的第一支撐部12的厚度與用于刻蝕形成蒸鍍掩模100板的金屬卷材40的厚度相等。
78.具體地，所述蒸鍍掩模100由金屬卷材40通過(guò)刻蝕形成，本發(fā)明構(gòu)思中，所述金屬卷材40的厚度t，滿足關(guān)系式：5um≤t≤40um。
79.具體地，參見圖5和圖6，所述第一凹部11包括第一開口111及第一刻蝕面112，所述第一開口111位于所述上表面41，所述第一刻蝕面112為自所述第一開口111向所述下表面42凹陷形成的弧面。且，所述第一開口111與所述第一支撐部12相連，所述第一刻蝕面112自所述第一開口111向貫通孔30方向彎曲延伸，且所述第一刻蝕面112連接所述第一開口111與所述貫通孔30。
80.具體地，參見圖5和圖6，所述第二凹部21包括第二開口211及第二刻蝕面212，所述第二開口211與所述第二支撐部22相連，所述第二刻蝕面212自所述第二開口211向貫通孔30方向彎曲延伸，且所述第二刻蝕面212連接所述第二開口211與所述貫通孔30。
81.更優(yōu)地，定義一垂直所述第一面?zhèn)?0與所述第二面?zhèn)?0的縱截面，且所述第一開口111的縱截面寬度為d，所述貫通孔30的縱截面寬度為f，滿足關(guān)系式：1um≤d-f≤4um，滿足上述關(guān)系式時(shí)，所述蒸鍍掩模100在刻蝕成型過(guò)程中，可以在金屬卷材40厚度t不大于40um的情況下得以經(jīng)過(guò)兩次刻蝕形成貫通孔30，避免第一次刻蝕直接蝕穿金屬卷材40。
82.(蒸鍍掩模100制造方法)
83.本實(shí)施例提供一種蒸鍍掩模100的制造方法，用于制造所述蒸鍍掩模100，參見圖7～圖16，所述制造方法包括：
84.步驟s10：提供一金屬卷材40。
85.具體地，所述金屬卷材40包括上表面41及下表面42，所述上表面41與所述下表面
42相對(duì)，所述金屬卷材40的厚度t即為所述上表面41至所述下表面42的厚度，且，滿足關(guān)系式：5um≤t≤40um；
86.更優(yōu)地，金屬卷材40用于刻蝕形成蒸鍍掩模100，本實(shí)施例中，所述金屬卷材40具體為鎳鐵合金，所述鎳鐵合金為熱膨脹系數(shù)約1ppm/℃為特征的36％鎳鐵合金。通過(guò)此方法可以抑制蒸鍍熱溫度導(dǎo)致的尺寸變動(dòng)。
87.更優(yōu)地，金屬卷材40刻蝕前需要對(duì)上表面41和下表面42進(jìn)行常規(guī)的酸洗清潔及檢查。具體地，對(duì)所述金屬卷材40的上表面41及下表面42用酸堿進(jìn)行噴灑，金屬卷材40可以通過(guò)收卷機(jī)61釋放緩慢經(jīng)過(guò)清洗裝置，清洗后再收卷以便于之后的工序。可以去除金屬卷材40表面的異物，去除金屬卷材40表面的金屬摻雜物，防止孔形狀缺陷
88.步驟s20：分別在所述金屬卷材40的上表面41及下表面42真空貼合干膜光阻50。
89.具體地，所述干膜光阻50包括第一干膜光阻51和第二干膜光阻52，所述第一干膜光阻51貼合于所述金屬卷材40的上表面41，所述第二干膜光阻52貼合于所述金屬卷材40的下表面42。
90.具體地，所述干膜光阻50通過(guò)熱壓貼合于所述金屬卷材40的上表面41及下表面42。熱壓貼合前，所述金屬卷材40收卷于收卷機(jī)61內(nèi)，所述金屬卷材40經(jīng)收卷機(jī)61釋放緩緩?fù)ㄟ^(guò)預(yù)加熱裝置623，預(yù)加熱裝置623對(duì)所述金屬卷材40的上表面41和下表面42預(yù)加熱，預(yù)加熱后的金屬卷材40緩緩?fù)ㄟ^(guò)熱壓滾輪625與干膜光阻50相貼合。熱壓貼合前，干膜光阻50收卷于另一收卷機(jī)61內(nèi)，本實(shí)施例的干膜光阻50還至少覆蓋有用于承載及保護(hù)干膜光阻50的基材層53，干膜光阻50從收卷機(jī)61緩緩釋放并剝離基材層53，剝離基材層53的干膜光阻50通過(guò)熱壓滾輪625與金屬卷材40相貼合，貼合有干膜光阻50的金屬卷材40收卷于收卷機(jī)61以便于轉(zhuǎn)移至下一工序。
91.更優(yōu)地，所述干膜光阻50熱壓貼合于所述金屬卷材40的過(guò)程在真空環(huán)境內(nèi)進(jìn)行，以提高干膜光阻50與金屬卷材40上表面41和下表面42的附著緊密度。以防止干膜光阻50與金屬卷材40之間卷入并產(chǎn)生氣泡，并且可以提高干膜光阻50的密著性，以及防止孔形狀缺陷。
92.步驟s30：通過(guò)曝光顯影將所述干膜光阻50圖案化。
93.具體地，所述干膜光阻50用于曝光顯影形成圖案化的干膜光阻50，并以圖案化的干膜光阻50作為掩模將設(shè)計(jì)的圖案轉(zhuǎn)移至金屬卷材40上，以用于刻蝕形成所需的第一面?zhèn)?0、第二面?zhèn)?0及貫通孔30的大小及形狀。
94.具體地，曝光顯影分別在曝光設(shè)備63和顯影設(shè)備64中進(jìn)行。
95.具體地，所述曝光設(shè)備63至少包括若干收卷機(jī)61、若干搬送滾輪632及曝光機(jī)633。本實(shí)施例中，所述曝光機(jī)633為豎立式曝光機(jī)633，貼合有干膜光阻50的所述金屬卷材40收卷于收卷機(jī)61內(nèi)。金屬卷材40從收卷機(jī)61釋放，并通過(guò)若干搬送滾輪632傳動(dòng)，從而自上而下通過(guò)曝光機(jī)633。
96.具體地，所述曝光機(jī)633至少包括曝光燈6331、曝光機(jī)框架6332、真空密封件6333、第一曝光掩模6334及第二曝光掩模6335，所述曝光機(jī)框架6332成對(duì)設(shè)置，所述第一曝光掩模6334和第二曝光掩模6335分別設(shè)置于曝光機(jī)框架6332內(nèi)，且所述第一曝光掩模6334和第二曝光掩模6335分別位于金屬卷材40的兩側(cè)。具體地，所述第一曝光掩模6334位于所述金屬卷材40貼合有第一干膜光阻51的一側(cè)，所述第二掩模位于所述金屬卷材40貼合有第二干
膜光阻52的一側(cè)，第一曝光掩模6334與第二曝光掩模6335正對(duì)且間隔設(shè)置。
97.曝光之前，所述第一曝光掩模6334與所述第二曝光掩模6335先進(jìn)行位置對(duì)準(zhǔn)。所述第一曝光掩模6334與所述第二曝光掩模6335通過(guò)2um以下的對(duì)準(zhǔn)精度進(jìn)行位置對(duì)準(zhǔn)。
98.更優(yōu)的，所述第一曝光掩模6334與第二曝光掩模6335之間夾設(shè)有與所述干膜光阻50相貼合的金屬卷材40，并通過(guò)真空貼合后進(jìn)行曝光。
99.曝光之時(shí)，通過(guò)所述真空密封件6333使得第一曝光掩模6334與第二曝光掩模6335之間形成真空環(huán)境，令所述金屬卷材40在真空環(huán)境下曝光。此時(shí)，對(duì)于蒸鍍掩模100而言，所述第一曝光掩模6334正對(duì)所述蒸鍍掩模100的第一面?zhèn)?0，所述第二曝光掩模6335正對(duì)所述蒸鍍掩模100的第二面?zhèn)?0，且所述第一曝光掩模6334與所述第二曝光掩模6335的周圍環(huán)境溫度t控制在：-2℃≤t≤2℃。
100.具體地，本實(shí)施例中，所述曝光掩模為以鉻形成圖案化的玻璃基材，所述曝光掩模為鈉鈣玻璃或石英玻璃中的一種，本實(shí)施例中，所述曝光掩模為鈉鈣玻璃，鉻具體為設(shè)置于玻璃基材上的隔膜及設(shè)置于隔膜上的氧化隔膜，本實(shí)施例采用如下具體參數(shù)：
[0101][0102]
曝光之后，所述金屬卷材40收卷于收卷機(jī)61內(nèi)。由此，能夠最大限度地減小對(duì)金屬板施加的張力，并且，能夠使圖案內(nèi)的溫度偏差極小化，使玻璃圖案內(nèi)的圖案尺寸偏差極小化，能夠防止孔的位置偏差缺陷。
[0103]
具體地，所述顯影設(shè)備64采用公知的顯影設(shè)備64，曝光后的金屬卷材40在顯影設(shè)備64內(nèi)完成圖案化，以將設(shè)計(jì)的圖案轉(zhuǎn)移至干膜光阻50。具體地，圖案化的第一干膜光阻51用于刻蝕所述金屬卷材40的上表面41以形成蒸鍍掩模100的第一面?zhèn)?0，圖案化的第二干膜光阻52用于刻蝕所述金屬卷材40的下表面42以形成蒸鍍掩模100的第二面?zhèn)?0及貫通孔30。
[0104]
步驟s40：通過(guò)圖案化的所述干膜光阻50刻蝕所述上表面41形成第一面?zhèn)?0；
[0105]
具體地，所述干膜光阻50包括第一干膜光阻51和第二干膜光阻52，本步驟中，通過(guò)圖案化的第一干膜光阻51刻蝕所述上表面41形成第一面?zhèn)?0。具體地，以圖案化的所述第一干膜光阻51作為刻蝕用的掩模，將設(shè)計(jì)的圖案轉(zhuǎn)移至金屬卷材40的上表面41，形成所設(shè)計(jì)的第一面?zhèn)?0。
[0106]
具體地，所述第一面?zhèn)?0至少包括若干第一凹部11，所述第一凹部11包括第一開口111及第一刻蝕面112，所述第一開口111位于所述上表面41，所述第一開口111與所述上表面41平齊，所述第一刻蝕面112為自所述第一開口111向所述下表面42凹陷形成的曲面。可以理解為，所述第一開口111為第一凹部11在所述上表面41形成的開口輪廓，所述第一刻蝕面112為第一凹部11向下表面42凹陷過(guò)程中形成的曲面。
[0107]
具體地，在進(jìn)行步驟s40之前，為了獲取實(shí)際刻蝕時(shí)的刻蝕條件，先進(jìn)行蝕刻條件
調(diào)教工序。
[0108]
具體地，為了獲取實(shí)際刻蝕時(shí)的刻蝕條件，先將導(dǎo)向板通過(guò)刻蝕裝置，本實(shí)施例中，導(dǎo)向板采用0.3mm的pet材料(聚對(duì)苯二甲酸乙二醇脂)，在導(dǎo)向板的下面粘貼用于第一次刻蝕的刻蝕面，本實(shí)施例中，所述金屬卷材40的上表面41為第一次刻蝕的刻蝕面，通過(guò)刻蝕測(cè)試結(jié)合計(jì)算機(jī)模擬獲得各項(xiàng)刻蝕條件。
[0109]
具體地，刻蝕條件提取結(jié)束后，將實(shí)際用于刻蝕的金屬卷材40設(shè)置于刻蝕設(shè)備內(nèi)，將導(dǎo)向板與實(shí)際用于刻蝕的金屬卷材40相連接。本實(shí)施例中，將所述上表面41朝下并對(duì)所述上表面41進(jìn)行刻蝕，刻蝕液通過(guò)圖案化的第一干膜光阻51刻蝕所述上表面41形成第一面?zhèn)?0。本實(shí)施例中，通過(guò)限定第一開口111的結(jié)構(gòu)尺寸控制刻蝕的程度，具體工藝參數(shù)可以根據(jù)實(shí)際情況具體設(shè)定，以最終形成的第一開口111結(jié)構(gòu)尺寸為標(biāo)準(zhǔn)調(diào)試工藝參數(shù)。刻蝕完成后用純水充分清洗、干燥后收卷。由此，能夠正確地控制量產(chǎn)時(shí)的孔尺寸。
[0110]
步驟s50：在所述第一面?zhèn)?0真空貼合樹脂70以填埋所述第一凹部11；
[0111]
具體地，在真空環(huán)境下以樹脂70填埋所述第一凹槽，本實(shí)施例中，所述樹脂70以貼合的方式覆蓋所述第一面?zhèn)?0，并填埋第一面?zhèn)?0的第一凹部11。采用真空環(huán)境有利于提高樹脂70與第一凹槽填埋的緊密程度，以避免刻蝕液通過(guò)貫通孔30進(jìn)入第一凹部11。本實(shí)施例中，所述樹脂70為熱可塑性耐酸樹脂70。樹脂70是在基材pet上涂上樹脂的薄膜狀結(jié)構(gòu)。由此，能夠防止氣泡進(jìn)入樹脂與第一凹部11之間，能夠防止孔形狀缺陷。
[0112]
步驟s60：通過(guò)圖案化的所述干膜光阻50刻蝕所述下表面42形成第二面?zhèn)?0；
[0113]
具體地，本步驟中，通過(guò)圖案化的第二干膜光阻52刻蝕所述下表面42形成第二面?zhèn)?0。具體地，以圖案化的所述第二干膜光阻52作為刻蝕用的掩模，將設(shè)計(jì)的圖案轉(zhuǎn)移至金屬卷材40的下表面42，形成所設(shè)計(jì)的第二面?zhèn)?0。
[0114]
具體地，所述第二面?zhèn)?0至少包括若干第二凹部21，所述第二凹部21向所述上表面41凹陷，所述第二凹部21與所述第一凹部11相貫穿形成貫通孔30，且所述第一刻蝕面112連接所述第一開口111與所述貫通孔30；可以理解為，若干個(gè)第一凹部11一一對(duì)應(yīng)若干個(gè)第二凹部21，且貫穿形成若干個(gè)貫通孔30。
[0115]
具體地，定義一垂直所述上表面41與所述下表面42的縱截面，且所述第一開口111的縱截面寬度為d，所述貫通孔30的縱截面寬度為f，滿足關(guān)系式：1um≤d-f≤4um；滿足上述關(guān)系式時(shí)，所述蒸鍍掩模100在刻蝕成型過(guò)程中，可以在金屬卷材40厚度t不大于40um的情況下得以經(jīng)過(guò)兩次刻蝕形成貫通孔30，避免第一次刻蝕直接蝕穿金屬卷材40。
[0116]
具體地，在進(jìn)行步驟s40之前，首先進(jìn)行蝕刻條件調(diào)整步驟，以獲得實(shí)際蝕刻時(shí)的蝕刻條件。為了得到實(shí)際蝕刻法時(shí)的蝕刻條件,首先將導(dǎo)向板通過(guò)蝕刻裝置,通過(guò)本實(shí)施例中,導(dǎo)向板是0.3mm的pet材料(polyethylene terephthalate)使用,對(duì)導(dǎo)向板下部貼附第一次蝕刻用的蝕刻面。在本實(shí)施例中，所述金屬卷材料40的下表面42是第二次蝕刻的蝕刻面，通過(guò)結(jié)合蝕刻測(cè)試和計(jì)算機(jī)模擬，獲得相應(yīng)的蝕刻條件。
[0117]
具體地，刻蝕條件提取結(jié)束后，將實(shí)際用于刻蝕的金屬卷材40設(shè)置刻蝕設(shè)備內(nèi)，將導(dǎo)向板與實(shí)際用于刻蝕的金屬卷材40相連接。本施例中，將所述上表面41朝下并對(duì)所述上表面41進(jìn)行刻蝕，刻蝕液通過(guò)圖案化的第一干膜光阻51刻蝕所述上表面41形成第一面?zhèn)?0。本實(shí)施例中，通過(guò)限定第一開口111的結(jié)構(gòu)尺寸控制刻蝕的程度，具體工藝參數(shù)可以根據(jù)實(shí)際情況具體設(shè)定，以最終形成的第一開口111結(jié)構(gòu)尺寸為標(biāo)準(zhǔn)調(diào)試工藝參數(shù)。刻蝕完成
后用純水充分清洗、干燥后收卷。
[0118]
步驟s70：剝離所述樹脂70及所述干膜光阻50；
[0119]
將金屬卷材40釋放進(jìn)入剝離裝置，剝離所述樹脂70、第一干膜光阻51及第二干膜光阻52，并用純水充分洗凈。本實(shí)施例中，通過(guò)無(wú)機(jī)堿或有機(jī)堿中的一種或兩種的組合實(shí)現(xiàn)剝離處理。由此，可以在同一裝置內(nèi)實(shí)現(xiàn)剝離樹脂及干燥干膜光阻。
[0120]
步驟s80：完成剝離后裁剪所述金屬卷材40形成若干金屬片材。
[0121]
具體地，將金屬卷材40沿垂直金屬卷材40的收卷方向裁剪，形成若干片狀的金屬片材。
[0122]
步驟s90：剪裁所述金屬片材形成若干條狀的蒸鍍掩模100。
[0123]
具體地，根據(jù)設(shè)計(jì)的蒸鍍掩模100，將所述金屬片材裁剪為條狀的蒸鍍掩模100。
[0124]
更優(yōu)地，獲得條狀的蒸鍍掩模100后，根據(jù)實(shí)際需要進(jìn)行相應(yīng)的檢查工序。
[0125]
具體地，自動(dòng)外觀檢查工序，通過(guò)與檢查對(duì)象通孔的外周的貫通孔30比較，對(duì)分離剪裁出的蒸鍍掩模100內(nèi)的所有貫通孔30進(jìn)行了自動(dòng)檢查；通過(guò)圖像處理將外周貫通孔30的平均值與對(duì)象貫通孔30進(jìn)行比較；比較檢查是通過(guò)比較通孔的面積，以及最短尺寸，最長(zhǎng)尺寸來(lái)進(jìn)行
[0126]
具體地，確認(rèn)檢查工序，調(diào)出異常的貫通孔30，實(shí)施不良判定。
[0127]
具體地，外觀選別工序，按照實(shí)際要求挑選出合格的蒸鍍掩模100和不良的蒸鍍掩模100。
[0128]
具體地，尺寸檢查工序，放置合格的蒸鍍掩模100，采用蒸鍍掩模測(cè)定機(jī)測(cè)定手段測(cè)定蒸鍍掩模100的尺寸參數(shù)。
[0129]
具體地，尺寸選別工序，根據(jù)實(shí)際要求挑選出合格的蒸鍍掩模100和不良的蒸鍍掩模100。
[0130]
具體地，目視外觀工序，放置合格的蒸鍍掩模100，采用蒸鍍掩模目視檢查臺(tái)檢查蒸鍍掩模100的異物變形等情況。
[0131]
具體地，目視外觀選別工序，根據(jù)實(shí)際要求挑選出合格的蒸鍍掩模100和不良的蒸鍍掩模100。
[0132]
具體地，包裝工序，將經(jīng)過(guò)上述工序篩選合格的蒸鍍掩模100按規(guī)定數(shù)量配置在真空包裝中。
[0133]
本實(shí)施例中，蒸鍍掩模100板及工藝過(guò)程涉及的關(guān)鍵參數(shù)如下：
[0134]
其中，t為金屬卷材40的厚度，d為第一開口111的縱截面寬度，f為貫通孔30的縱截面寬度。
[0135]
參數(shù)尺寸單位t5umd7umf8um
[0136]
作為另一種示例，還可以采用以下參數(shù)如下：
[0137]
參數(shù)尺寸單位t25umd40um
f42um
[0138]
作為又一種示例，還可以采用以下參數(shù)：
[0139]
參數(shù)尺寸單位t40umd55umf59um
[0140]
(蒸鍍掩模制造裝置60)
[0141]
本實(shí)施例提供一種蒸鍍掩模制造裝置60，用于實(shí)現(xiàn)所述的蒸鍍掩模100制造方法，參見圖8～圖16，所述制造裝置60包括：收卷機(jī)61、第一貼合設(shè)備62、曝光設(shè)備63、顯影設(shè)備64、第一刻蝕設(shè)備65、第二貼合設(shè)備66、第二刻蝕設(shè)備67、剝離設(shè)備68、第一裁剪設(shè)備691及第二裁剪設(shè)備692，金屬卷材40通過(guò)收卷機(jī)61傳送依次通過(guò)第一貼合設(shè)備62、曝光設(shè)備63、顯影設(shè)備64、第一刻蝕設(shè)備65、第二貼合設(shè)備66、第二刻蝕設(shè)備67、剝離設(shè)備68、第一裁剪設(shè)備691。
[0142]
更優(yōu)地，收卷機(jī)61用于收卷或釋放金屬卷材40；
[0143]
具體地，所述收卷機(jī)61的數(shù)量為若干個(gè)，應(yīng)用于第一貼合設(shè)備62、曝光設(shè)備63、顯影設(shè)備64、第一刻蝕設(shè)備65、第二貼合設(shè)備66、第二刻蝕設(shè)備67、剝離設(shè)備68、第一裁剪設(shè)備691及第二裁剪設(shè)備692中，所述收卷機(jī)61成對(duì)使用，一收卷機(jī)61釋放纏繞其上的金屬卷材40，另一收卷機(jī)61收卷金屬卷材40使之纏繞其上，使得金屬卷材40緩慢通過(guò)相應(yīng)的工藝設(shè)備，收卷機(jī)61的設(shè)置可以根據(jù)實(shí)際需求配合搬送滾輪632、張緊輪等靈活使用。
[0144]
更優(yōu)地，第一貼合設(shè)備62用于在金屬卷材40的上表面41及下表面42真空貼合干膜光阻50。
[0145]
具體地，所述第一貼合設(shè)備62包括真空腔體621、第一收卷機(jī)622、預(yù)加熱裝置623、第二收卷機(jī)624及熱壓滾輪625。所述第一收卷機(jī)622、預(yù)加熱裝置623、第二收卷機(jī)624及熱壓滾輪625設(shè)置于真空腔體621內(nèi)，所述第一收卷機(jī)622成對(duì)設(shè)置，其用于傳送金屬卷材40，使之依次緩慢通過(guò)預(yù)加熱裝置623和熱壓滾輪625。所述第二收卷機(jī)624與第一收卷機(jī)622和熱壓滾輪625配合使用，其用于傳送干膜光阻50，使之在熱壓滾輪625的位置貼合于金屬卷材40的上表面41和下表面42。本實(shí)施例中，所述干膜光阻50設(shè)置有基材層53，所述第二收卷機(jī)624將干膜光阻50貼合于金屬卷材40之前先剝離所述基材層53，所述剝離的工藝可以采用公知的剝離方法。
[0146]
具體地，熱壓貼合前，所述金屬卷材40收卷于第一收卷機(jī)622內(nèi)，所述金屬卷材40經(jīng)第一收卷機(jī)622釋放緩緩?fù)ㄟ^(guò)預(yù)加熱裝置623，預(yù)加熱裝置623對(duì)所述金屬卷材40的上表面41和下表面42預(yù)加熱，預(yù)加熱后的金屬卷材40緩緩?fù)ㄟ^(guò)熱壓滾輪625與干膜光阻50相貼合。熱壓貼合前，干膜光阻50收卷于第二收卷機(jī)624內(nèi)，干膜光阻50從第二收卷機(jī)624緩緩釋放并剝離基材層53，剝離基材層53的干膜光阻50通過(guò)熱壓滾輪625與金屬卷材40相貼合，貼合有干膜光阻50的金屬卷材40收卷于第一收卷機(jī)622以便于轉(zhuǎn)移至下一工序。
[0147]
具體地，真空腔體621形成了真空環(huán)境，所述干膜光阻50熱壓貼合于所述金屬卷材40的過(guò)程在真空環(huán)境內(nèi)進(jìn)行，提高了干膜光阻50與金屬卷材40上表面41和下表面42的附著緊密度。
[0148]
更優(yōu)地，所述曝光設(shè)備63用于對(duì)干膜光阻50曝光。所述曝光設(shè)備63包括第三收卷
機(jī)631、搬送滾輪632、曝光機(jī)633。所述第三收卷機(jī)631成對(duì)設(shè)置，其用于傳送金屬卷材40，使之緩慢通過(guò)曝光機(jī)633，所述搬送滾輪632與所述第三收卷機(jī)631配合傳送所述金屬卷材40。本實(shí)施例中，所述曝光機(jī)633為豎立式曝光機(jī)633，所述金屬卷材40通過(guò)曝光機(jī)633時(shí)，金屬卷材40上的圖案和材料在真空貼緊前釋放張緊力。
[0149]
具體地，所述曝光機(jī)633包括曝光燈6331、曝光機(jī)框架6332、真空密封件6333、第一曝光掩模6334及第二曝光掩模6335，所述曝光機(jī)框架6332成對(duì)設(shè)置，所述第一曝光掩模6334和第二曝光掩模6335分別設(shè)置于曝光機(jī)框架6332內(nèi)，且所述第一曝光掩模6334和第二曝光掩模6335分別位于金屬卷材40的兩側(cè)。具體地，所述第一曝光掩模6334位于所述金屬卷材40貼合有第一干膜光阻51的一側(cè)，所述第二掩模位于所述金屬卷材40貼合有第二干膜光阻52的一側(cè)，第一曝光掩模6334與第二曝光掩模6335正對(duì)且間隔設(shè)置。
[0150]
具體地，所述顯影設(shè)備64用于對(duì)干膜光阻50顯影以實(shí)現(xiàn)圖案化，本實(shí)施例中，所述顯影設(shè)備64包括顯影裝置641和第四收卷機(jī)642，所述第四收卷機(jī)642成對(duì)設(shè)置，其用于傳送金屬卷材40，使之緩慢通過(guò)顯影裝置641。所述顯影裝置641采用公知的用于實(shí)現(xiàn)顯影的裝置。
[0151]
具體地，所述第一刻蝕設(shè)備65通過(guò)圖案化的所述干膜光阻50刻蝕所述上表面41形成第一面?zhèn)?0。
[0152]
具體地，所述第一面?zhèn)?0至少包括若干第一凹部11，所述第一凹部11包括第一開口111及第一刻蝕面112，所述第一開口111與所述上表面41平齊，所述第一刻蝕面112為自所述第一開口111向所述下表面42凹陷形成的面。本實(shí)施例中，所述第一刻蝕面112為曲面。
[0153]
具體地，所述第二貼合設(shè)備66用于在所述第一面?zhèn)?0真空貼合樹脂70以填埋所述第一凹部11。
[0154]
具體地，所述第二刻蝕設(shè)備67通過(guò)圖案化的所述干膜光阻50刻蝕所述下表面42形成第二面?zhèn)?0。
[0155]
具體地，所述第二面?zhèn)?0至少包括若干第二凹部21，所述第二凹部21向所述上表面41凹陷，所述第二凹部21與所述第一凹部11相貫穿形成貫通孔30，且所述第一刻蝕面112連接所述第一開口111與所述貫通孔30；定義一垂直所述上表面41與所述下表面42的縱截面，且所述第一開口111的縱截面寬度為d，所述貫通孔30的縱截面寬度為f，滿足關(guān)系式：1um≤d-f≤4um；
[0156]
具體地，所述剝離設(shè)備68用于剝離所述樹脂70及所述干膜光阻50，本實(shí)施例中，所述剝離設(shè)備68通過(guò)無(wú)機(jī)堿或有機(jī)堿中的一種或兩種的組合實(shí)現(xiàn)剝離處理；
[0157]
具體地，所述第一裁剪設(shè)備691用于裁剪所述金屬卷材40形成若干金屬片材。
[0158]
具體地，所述第二裁剪設(shè)備692用于剪裁所述金屬片材形成若干條狀的蒸鍍掩模100。
[0159]
(有機(jī)顯示裝置)
[0160]
本實(shí)施例提供一種有機(jī)顯示裝置，
[0161]
該有機(jī)顯示裝置通過(guò)所述蒸鍍掩模裝置4000進(jìn)行蒸鍍制作獲得。
[0162]
借此，通過(guò)限定蒸鍍掩模的第一開口的縱截面寬度為d，以及貫通孔的縱截面寬度為f，令其滿足關(guān)系式：1um≤d-f≤4um，使得蒸鍍掩模制造過(guò)程中，在金屬卷材厚度t不大于40um的情況下得以經(jīng)過(guò)兩次刻蝕形成貫通孔，避免第一次刻蝕直接蝕穿金屬卷材。
[0163]
最后應(yīng)說(shuō)明的是：以上實(shí)施例僅用以說(shuō)明本發(fā)明的技術(shù)方案，而非對(duì)其限制；盡管參照前述實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了詳細(xì)的說(shuō)明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員當(dāng)理解：其依然可以對(duì)前述各實(shí)施例所記載的技術(shù)方案進(jìn)行修改，或者對(duì)其中部分技術(shù)特征進(jìn)行等同替換；而這些修改或者替換，并不驅(qū)使相應(yīng)技術(shù)方案的本質(zhì)脫離本發(fā)明各實(shí)施例技術(shù)方案的精神和范圍。
技術(shù)特征：
1.一種蒸鍍掩模制造方法，所述蒸鍍掩模在蒸鍍材料向蒸鍍基板的蒸鍍中被使用，所述蒸鍍掩模包括：第一面?zhèn)龋錁?gòu)成所述蒸鍍掩模面對(duì)所述蒸鍍基板的一側(cè)；第二面?zhèn)龋錁?gòu)成所述蒸鍍掩模與所述第一面?zhèn)认喾吹囊粋?cè)；及貫通孔，其貫穿所述第一面?zhèn)扰c所述第二面?zhèn)龋涮卣髟谟冢摲椒òú襟E：提供一包括上表面及與上表面相對(duì)的下表面的金屬卷材，所述金屬卷材的厚度t滿足關(guān)系式：5um≤t≤40um；分別在所述金屬卷材的上表面及下表面真空貼合干膜光阻，通過(guò)曝光顯影將所述干膜光阻圖案化；通過(guò)圖案化的所述干膜光阻刻蝕所述上表面形成第一面?zhèn)龋龅谝幻鎮(zhèn)戎辽侔ㄈ舾傻谝话疾浚龅谝话疾堪ǖ谝婚_口及第一刻蝕面，所述第一開口與所述上表面平齊，所述第一刻蝕面為自所述第一開口向所述下表面凹陷形成的面；在所述第一面?zhèn)日婵召N合樹脂以填埋所述第一凹部；通過(guò)圖案化的所述干膜光阻刻蝕所述下表面形成第二面?zhèn)龋龅诙鎮(zhèn)戎辽侔ㄈ舾傻诙疾浚龅诙疾肯蛩錾媳砻姘枷荩龅诙疾颗c所述第一凹部相貫穿形成貫通孔，且所述第一刻蝕面連接所述第一開口與所述貫通孔；定義一垂直所述上表面與所述下表面的縱截面，且所述第一開口的縱截面寬度為d，所述貫通孔的縱截面寬度為f，滿足關(guān)系式：1um≤d-f≤4um；剝離所述樹脂及所述干膜光阻；裁剪所述金屬卷材形成若干金屬片材；剪裁所述金屬片材形成若干條狀的蒸鍍掩模。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍掩模制造方法，其特征在于：所述干膜光阻熱壓貼合于所述金屬卷材的上表面及下表面。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的蒸鍍掩模制造方法，其特征在于：所述干膜光阻通過(guò)熱壓貼合于所述金屬卷材的上表面及下表面之前，先對(duì)所述金屬卷材預(yù)加熱。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍掩模制造方法，其特征在于：所述干膜光阻包括第一干膜光阻和第二干膜光阻，所述第一干膜光阻熱壓貼合于所述金屬卷材的上表面，所述第二干膜光阻熱壓貼合于所述金屬卷材的下表面。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍掩模制造方法，其特征在于：所述樹脂為熱可塑性耐酸樹脂。6.一種制造裝置，其特征在于，其用于實(shí)施如權(quán)利要求1-5任一所述的蒸鍍掩模制造方法，所述制造裝置包括：收卷機(jī)，其用于收卷及釋放金屬卷材，所述金屬卷材的厚度t滿足關(guān)系式：5um≤t≤40um；第一貼合設(shè)備，其用于在金屬卷材的上表面及下表面真空貼合干膜光阻；曝光設(shè)備，其用于對(duì)所述干膜光阻曝光；顯影設(shè)備，其用于對(duì)所述干膜光阻顯影以實(shí)現(xiàn)圖案化；第一刻蝕設(shè)備，其通過(guò)圖案化的所述干膜光阻刻蝕所述上表面形成第一面?zhèn)龋凰龅?br/>一面?zhèn)戎辽侔ㄈ舾傻谝话疾浚龅谝话疾堪ǖ谝婚_口及第一刻蝕面，所述第一開口與所述上表面平齊，所述第一刻蝕面為自所述第一開口向所述下表面凹陷形成的面；第二貼合設(shè)備，在所述第一面?zhèn)日婵召N合樹脂以填埋所述第一凹部；第二刻蝕設(shè)備，其通過(guò)圖案化的所述干膜光阻刻蝕所述下表面形成第二面?zhèn)龋龅诙鎮(zhèn)戎辽侔ㄈ舾傻诙疾浚龅诙疾肯蛩錾媳砻姘枷荩龅诙疾颗c所述第一凹部相貫穿形成貫通孔，且所述第一刻蝕面連接所述第一開口與所述貫通孔；定義一垂直所述上表面與所述下表面的縱截面，且所述第一開口的縱截面寬度為d，所述貫通孔的縱截面寬度為f，滿足關(guān)系式：1um≤d-f≤4um；剝離設(shè)備，其用于剝離所述樹脂及所述干膜光阻；第一裁剪設(shè)備，其用于裁剪所述金屬卷材形成若干金屬片材；第二裁剪設(shè)備，其用于剪裁所述金屬片材形成若干條狀的蒸鍍掩模。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的制造裝置，其特征在于：所述曝光設(shè)備為豎立式，所述金屬卷材自上而下通過(guò)所述曝光設(shè)備進(jìn)行曝光。8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的制造裝置，其特征在于：所述曝光設(shè)備至少包括第一曝光掩模和第二曝光掩模，所述第一曝光掩模與所述第二曝光掩模間隔設(shè)置。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的制造裝置，其特征在于：在曝光之前，所述第一曝光掩模與所述第二曝光掩模先進(jìn)行位置對(duì)準(zhǔn)。10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的制造裝置，其特征在于：所述第一曝光掩模與所述第二曝光掩模通過(guò)2um以下的對(duì)準(zhǔn)精度進(jìn)行位置對(duì)準(zhǔn)。11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的制造裝置，其特征在于：所述第一曝光掩模與所述第二曝光掩模在曝光設(shè)備內(nèi)的周圍環(huán)境溫度t控制在：-2℃≤t≤2℃。12.根據(jù)權(quán)利要求6所述的制造裝置，其特征在于：所述第一貼合設(shè)備至少包括熱壓滾輪，所述干膜光阻通過(guò)所述熱壓滾輪熱壓貼合于所述金屬卷材。13.根據(jù)權(quán)利要求6所述的制造裝置，其特征在于：所述第一貼合設(shè)備還包括預(yù)加熱裝置，所述干膜光阻通過(guò)所述熱壓滾輪熱壓貼合于所述金屬卷材之前，所述金屬卷材通過(guò)預(yù)加熱裝置先進(jìn)行預(yù)加熱。14.一種蒸鍍掩模，其特征在于：其通過(guò)如權(quán)利要求1所述的蒸鍍掩模制造方法制造獲得。15.一種蒸鍍掩模組件，其特征在于，包括如權(quán)利要求14所述的一種蒸鍍掩模。16.一種蒸鍍掩模裝置，其特征在于，包括如權(quán)利要求15所述的一種蒸鍍掩模組件。17.一種有機(jī)顯示裝置，其特征在于，該有機(jī)顯示裝置通過(guò)如權(quán)利要求16所述的蒸鍍掩模裝置進(jìn)行蒸鍍獲得。
技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供了一種蒸鍍掩模制造方法，該方法包括步驟：提供一金屬卷材，所述金屬卷材的厚度T滿足關(guān)系式：5um≤T≤40um；分別在所述金屬卷材的上表面及下表面真空貼合干膜光阻，通過(guò)曝光顯影將所述干膜光阻圖案化；通過(guò)圖案化的所述干膜光阻刻蝕所述上表面形成第一面?zhèn)龋谒龅谝幻鎮(zhèn)日婵召N合樹脂以填埋所述第一凹部；通過(guò)圖案化的所述干膜光阻刻蝕所述下表面形成第二面?zhèn)龋x一垂直所述上表面與所述下表面的縱截面，且所述第一開口的縱截面寬度為D，所述貫通孔的縱截面寬度為F，滿足關(guān)系式：1um≤D-F≤4um。使得蒸鍍掩模制造過(guò)程中，避免第一次刻蝕直接蝕穿金屬卷材。第一次刻蝕直接蝕穿金屬卷材。第一次刻蝕直接蝕穿金屬卷材。
