一種基于柔性基材雙面鍍膜卷繞裝置及卷繞鍍膜設備的制作方法
1.本技術屬于鍍膜設備技術領域，具體涉及一種基于柔性基材雙面鍍膜卷繞裝置及卷繞鍍膜設備。
背景技術：
2.真空卷繞鍍膜技術，是在真空室內通過磁控濺射技術等方法在卷裝基材表面制備一層或者多層功能性薄膜的技術，可以應用于電磁屏蔽膜、柔性電路板、光學膜、柔性光電產品等諸多領域中。目前，市面上常見的真空磁控濺射裝置普遍應用于單面鍍膜，真正可量化生產的雙面連續化鍍膜裝置并不多見。
3.近年來，隨著柔性光電產品的市場需求不斷擴大，尤其對復雜膜系結構產品，雙面鍍膜產品的需求成不斷擴大趨勢。卷繞式真空磁控濺射雙面連續鍍膜，是在真空條件下，應用磁控濺射方法在柔性基材上實現雙面連續鍍膜的一種技術。真空磁控濺射雙面鍍膜的涉及范圍較廣，過程較復雜；為了保證鍍膜產品的高質量、高成品率，關鍵在于鍍膜過程中如何保持張力的穩定性；此外，還需要保持鍍膜設備連續不間斷工作特性所需要的高設備可靠性和高穩定性。基于此，為完成上述關鍵點，需要具有滿足雙面鍍膜卷繞裝置的結構，這就要求真空鍍膜卷繞裝置的結構設計布局合理，滿足卷繞張力控制的精度、穩定性，雙面磁控濺射源布局合理等要求。
4.相關技術中的一些卷繞式真空鍍膜設備的工藝參數繁瑣、工藝重復性差、操作難度高造成最終的產品質量不穩定、設備故障率高。其卷繞裝置大多包括放卷、鍍膜輥、收卷三部分，結構單一，不能在一個工作周期內實現雙面鍍膜。另外，現有的一些卷繞裝置，基材在輥與輥之間拉伸張開時易造成橫向張力不均勻，使基材表面發生褶皺、凹凸不平，進而造成鍍膜厚度不均勻、質量差，導致產品的良率降低。
技術實現要素：
5.鑒于存在的上述問題，本實用新型旨在至少在一定程度上解決相關技術中的技術問題之一。為此，本實用新型提供一種基于柔性基材雙面鍍膜卷繞裝置及卷繞鍍膜設備，可以在一個工作周期內實現雙面連續鍍膜，能夠解決鍍膜過程中保持張力的穩定性的問題，提高鍍膜產品的質量。
6.為了解決上述技術問題，本技術是這樣實現的：
7.本技術實施例提供了一種基于柔性基材雙面鍍膜卷繞裝置，用于雙面磁控濺射卷繞鍍膜設備，所述雙面磁控濺射卷繞鍍膜設備包括真空腔室，所述真空腔室內設有所述種基于柔性基材雙面鍍膜卷繞裝置，所述種基于柔性基材雙面鍍膜卷繞裝置包括：放卷機構、第一張力區、第一冷卻鍍膜輥、第二張力區、第二冷卻鍍膜輥、第三張力區和收卷機構，由所述放卷機構釋放的基材依次經過所述第一張力區、所述第一冷卻鍍膜輥、所述第二張力區、所述第二冷卻鍍膜輥和所述第三張力區，再由所述收卷機構進行收卷；
8.所述第一冷卻鍍膜輥與所述第二冷卻鍍膜輥相鄰的方向分別為兩次鍍膜的基材
的進入方向；
9.所述第一張力區、所述第二張力區和所述第三張力區各自獨立地包括至少一個張力測量輥、至少一個展平輥和多個導向過輥。
10.在本技術的一些實施方式中，沿基材輸送路徑，所述第一張力區包括依次設置的第一導向過輥、第一張力測量輥、第一展平輥和第二導向過輥，所述第二張力區包括依次設置的第三導向過輥、第二張力測量輥、第二展平輥和第四導向過輥，所述第三張力區包括依次設置的第五導向過輥、第三張力測量輥、第三展平輥和第六導向過輥。
11.在本技術的一些實施方式中，所述第一導向過輥位于所述放卷機構的一側，所述第二導向過輥貼合設置于所述第一冷卻鍍膜輥的一側，所述第三導向過輥貼合設置于所述第一冷卻鍍膜輥的另一側，所述第四導向過輥貼合設置于所述第二冷卻鍍膜輥的一側，所述第五導向過輥貼合設置于所述第二冷卻鍍膜輥的另一側，所述第六導向過輥位于所述收卷機構的一側。
12.在本技術的一些實施方式中，所述放卷機構包括放卷輥和驅動所述放卷輥轉動的放卷電機，所述收卷機構包括收卷輥和驅動所述收卷輥轉動的收卷電機；所述雙面磁控濺射卷繞鍍膜設備包括控制裝置，所述放卷電機、所述收卷電機和所述張力測量輥分別與所述控制裝置信號連接。
13.在本技術的一些實施方式中，所述收卷機構還包括活動壓輥，所述活動壓輥設于所述收卷輥的一側，所述活動壓輥適于隨著所述收卷輥上的基材卷繞的直徑變化而移動。
14.在本技術的一些實施方式中，所述真空腔室的內部上方設置有所述放卷機構，所述放卷機構的下方設置有所述收卷機構，所述放卷機構的下方偏右設置有所述第一冷卻鍍膜輥，所述放卷機構的下方偏左設置有所述第二冷卻鍍膜輥。
15.在本技術的一些實施方式中，所述放卷機構和所述收卷機構呈上下對稱的方式布置，所述第二冷卻鍍膜輥和所述第一冷卻鍍膜輥呈左右對稱的方式布置。
16.在本技術的一些實施方式中，所述真空腔室內的左右兩端分別設置有第一磁控濺射區和第二磁控濺射區，所述第一磁控濺射區圍繞所述第一冷卻鍍膜輥設置，所述第二磁控濺射區圍繞所述第二冷卻鍍膜輥設置。
17.在本技術的一些實施方式中，所述第一冷卻鍍膜輥和所述第二冷卻鍍膜輥均設置有用于冷卻介質循環流通的空腔或夾層；和/或，所述第一冷卻鍍膜輥和所述第二冷卻鍍膜輥之間設置有冷卻隔板，所述冷卻隔板具有供冷卻管通過的冷卻空間。
18.本技術實施例還提供了一種雙面磁控濺射卷繞鍍膜設備，包括真空腔室及設置于所述真空腔室內如前述的基于柔性基材雙面鍍膜卷繞裝置。
19.實施本實用新型的技術方案，至少具有以下有益效果：
20.在本技術實施例中，所提供的基于柔性基材雙面鍍膜卷繞裝置可以應用在卷繞式真空磁控濺射雙面連續鍍膜設備中，該卷繞裝置不僅在放卷機構和收卷機構至少設置了第一冷卻鍍膜輥和第二冷卻鍍膜輥，這樣，采用具有兩個冷卻鍍膜輥的鍍膜卷繞結構，能夠一次性完成柔性基材的雙面鍍膜，相比于傳統的采用兩個生產周期的鍍膜方式，能夠縮短生產時間，提高生產效率，還能夠保證在進行兩面鍍膜時全程處于真空環境中，避免鍍膜過程中由于基材暴露于大氣中造成的受熱變形、起皺、針孔等質最缺陷，提高產品的成品率，降低成本。同時，該卷繞裝置還在放卷機構與第一冷卻鍍膜輥之間布置第一張力區，在第一冷
卻鍍膜輥與第二冷卻鍍膜輥之間布置第二張力區，在第二冷卻鍍膜輥與收卷機構之間布置第三張力區，且第一張力區、第二張力區和第三張力區均包括張力測量輥、展平輥和導向過輥，這樣，結構設計合理，能夠使基材在運行期間進行展平處理，提高基材在冷卻鍍膜輥上的鍍膜效果，使鍍膜完成后收卷整齊，有效減少基材的針孔起皺變形等質量缺陷，尤其是配合張力測量輥的設置，可以測量區間張力，有效解決鍍膜過程中保持張力穩定性的問題，有效提高鍍膜產品質量，提高良品率。
21.本技術的附加方面和優點將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過本技術的實踐了解到。
附圖說明
22.圖1為本技術示例性的一些實施方式提供的基于柔性基材雙面鍍膜卷繞裝置的結構示意圖；
23.圖2為本技術示例性的另一些實施方式提供的基于柔性基材雙面鍍膜卷繞裝置的結構示意圖。
24.附圖標記：
25.10-放卷機構；
26.20-第一張力區；201-第一導向過輥；202-第一張力測量輥；203-第一展平輥；204-第二導向過輥；
27.30-第一冷卻鍍膜輥；
28.40-第二張力區；401-第三導向過輥；402-第二張力測量輥；403-第二展平輥；404-第四導向過輥；
29.50-第二冷卻鍍膜輥；
30.60-第三張力區；601-第五導向過輥；602-第三張力測量輥；603-第三展平輥；604-第六導向過輥；
31.70-收卷機構；701-收卷輥；702-活動壓輥；
32.80-基材；
33.90-真空腔室；901-第一磁控濺射區；902-第二磁控濺射區；910-靶材。
具體實施方式
34.下面將結合本技術實施例中的附圖，對本技術實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例是本技術一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本技術中的實施例，本領域普通技術人員在沒有作出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本技術保護的范圍。
35.請參閱圖1至圖2所示，本技術的一些實施例中，提供一種基于柔性基材雙面鍍膜卷繞裝置，用于雙面磁控濺射卷繞鍍膜設備，雙面磁控濺射卷繞鍍膜設備包括真空腔室90，真空腔室90內設有基于柔性基材雙面鍍膜卷繞裝置，該卷繞裝置可用于實現基材80的收卷和放卷，并在真空腔室90內在真空環境下可以實現對經過卷繞裝置中的鍍膜輥的基材80進行鍍膜以得到鍍膜產品。本實施例的基于柔性基材雙面鍍膜卷繞裝置可以應用在卷繞式真空磁控濺射鍍膜領域，尤其是可以應用在卷繞式真空磁控濺射雙面連續鍍膜裝置中，能夠
在一個工作周期內實現雙面連續鍍膜，還能解決鍍膜過程中有效保持張力的穩定性的問題。
36.具體的，如圖1至圖2所示，在一些實施例中，基于柔性基材雙面鍍膜卷繞裝置包括：放卷機構10、第一張力區20、第一冷卻鍍膜輥30、第二張力區 40、第二冷卻鍍膜輥50、第三張力區60和收卷機構70，由放卷機構10釋放的基材80依次經過第一張力區20、第一冷卻鍍膜輥30、第二張力區40、第二冷卻鍍膜輥50和第三張力區60，再由收卷機構70進行收卷；第一冷卻鍍膜輥 30與第二冷卻鍍膜輥50相鄰的方向分別為兩次鍍膜的基材80的進入方向；第一張力區20、第二張力區40和第三張力區60各自獨立地包括至少一個張力測量輥、至少一個展平輥和多個導向過輥，也就是，第一張力區20包括至少一個張力測量輥、至少一個展平輥和多個導向過輥，第二張力區40包括至少一個張力測量輥、至少一個展平輥和多個導向過輥，第三張力區60包括至少一個張力測量輥、至少一個展平輥和多個導向過輥。
37.本實施例中，放卷機構10可用于放卷基材，放卷基材為柔性基材，具體的柔性基材可以為薄膜，收卷機構70可用于收卷鍍膜后的柔性基材，以在放卷機構10的放卷下及收卷機構70的收卷下實現柔性基材的連續輸送，該放卷機構10和收卷機構70兩者的具體結構可以被本領域所熟知，故在此不再贅述。
38.該卷繞裝置中，在放卷機構10與第一冷卻鍍膜輥30之間形成第一張力區 20，在第一冷卻鍍膜輥30與第二冷卻鍍膜中之間形成第二張力區40，在第二冷卻鍍膜輥50與收卷機構70之間形成第三張力區60，并且第一張力區20、第二張力區40和第三張力區60均包括至少一個張力測量輥、至少一個展平輥和多個導向過輥。可選的，上述放卷機構10可以位于真空腔室90的上方，收卷機構70可以位于真空腔室90的下方，第一冷卻鍍膜輥30可以位于真空腔室90的右側，第二冷卻鍍膜輥50可以位于真空腔室90的左側。由此，走膜方向可以為，位于真空腔室90上方的放卷機構10釋放的基材80經過第一張力區20的導向過輥、張力測量輥和展平輥后進入右側的第一冷卻鍍膜輥30，該第一冷卻鍍膜輥30與基材80的一面抵接，由第一冷卻鍍膜輥30出來的基材80經過第二張力區40的導向過輥、張力測量輥和展平輥后進入左側的第二冷卻鍍膜輥50，該第二冷卻鍍膜輥50與基材80的另一面抵接，由第二冷卻鍍膜輥50出來的基材80經過第三張力區60的導向過輥、張力測量輥和展平輥后收卷于位于下方的收卷機構70。在此過程中，左側的第二冷卻鍍膜輥50可以沿逆時針轉動，右側的第一冷卻鍍膜輥30可以沿順時針轉動；且基材80在右側的第一冷卻鍍膜輥30上鍍膜，基材80在左側的第二冷卻鍍膜輥50上鍍膜。
39.此處需要說明的是，以上示例性的示出一種走膜方向，然而實際應用中走膜方向可以并不限于此。例如，依實際需求，還可以將放卷機構10設于真空腔室90的下方，將收卷機構70設于真空腔室90的上方，將第一冷卻鍍膜輥 30設于真空腔室90的左側，將第二冷卻鍍膜輥50可以位于真空腔室90的右側。由此，走膜方向可以為，位于真空腔室90下方的放卷機構10釋放的基材 80經過第一張力區20的導向過輥、張力測量輥和展平輥后進入左側的第一冷卻鍍膜輥30，該第一冷卻鍍膜輥30與基材80的一面抵接，由第一冷卻鍍膜輥 30出來的基材80經過第二張力區40的導向過輥、張力測量輥和展平輥后進入右側的第二冷卻鍍膜輥50，該第二冷卻鍍膜輥50與基材80的另一面抵接，由第二冷卻鍍膜輥50出來的基材80經過第三張力區60的導向過輥、張力測量輥和展平輥后收卷于位于上方的收卷機構70。在此過程中，左側的第一冷卻鍍膜輥30可以沿順時針轉動，右側的第二冷卻鍍膜輥50可以沿逆
時針轉動。
40.上述卷繞裝置可以滿足鍍區全幅寬的一卷雙面鍍，鍍區可以根據需要設計所需的尺寸。在雙面濺射鍍膜時，基材80的總體走向大體上可以呈s形。并且在雙面濺射鍍膜時，第一冷卻鍍膜輥30與第二冷卻鍍膜輥50相鄰的方向分別為兩次鍍膜的基材80的進入方向。以第一冷卻鍍膜輥30和第二冷卻鍍膜輥 50間隔的設置在真空腔室90的右側和左側為例，基材80可以從第一冷卻鍍膜輥30朝向第二冷卻鍍膜輥50的一側上方進入，如基材80可以從第一冷卻鍍膜輥30的左上方進入第一冷卻鍍膜輥30，再從第一冷卻鍍膜輥30的左下方流出第一冷卻鍍膜輥30；再經過第二張力區40后，基材80可以從第二冷卻鍍膜輥50朝向第一冷卻鍍膜輥30的一側上方進入，如基材80可以從第二冷卻鍍膜輥50的右上方進入第二冷卻鍍膜輥50，再從第二冷卻鍍膜輥50的右下方流出第二冷卻鍍膜輥50。
41.上述第一冷卻鍍膜輥30與基材80的一面抵接，第二冷卻鍍膜輥50與基材80相對的另一面抵接。基材80包括相對設置的第一表面和第二表面，如上表面和下表面，其中，第一冷卻鍍膜輥30可以與基材80的第一表面抵接，第二冷卻鍍膜輥50可以與基材80的第二表面抵接；或者第一冷卻鍍膜輥30可以與基材80的第二表面抵接，第二冷卻鍍膜輥50可以與基材80的第一表面抵接。由此，在基材80經過第一冷卻鍍膜輥30和第二冷卻鍍膜輥50時，可以實現對其的雙面鍍膜。
42.由此，基于以上設置，根據本實用新型實施例提供的技術方案，對于柔性基材雙向磁控濺射鍍膜產品，相較于傳統生產工藝采用在一個鍍膜周期內完成卷材單面鍍膜，在下一個鍍膜周期完成另一面鍍膜，存在的效率低、容易影響產品質量、操作繁瑣等問題，本實施例采用具有兩個冷卻鍍膜輥即包括第一冷卻鍍膜輥30和第二冷卻鍍膜輥50的鍍膜卷繞裝置，能夠實現一次性完成柔性基材的雙面鍍膜的目的，即可以解決一個工作周期內實現雙面連續鍍膜的問題。相較于傳統的采用兩個生產周期的鍍膜方式，本實施例能夠縮短生產時間，提高生產效率，還能夠保證在進行兩面鍍膜時全程處于真空環境中，避免鍍膜過程中由于柔性基材暴露于大氣中造成的受熱變形、起皺、針孔等質最缺陷，提高產品的成品率，降低成本。
43.同時，該卷繞裝置結構設計合理，在第一張力區20、第二張力區40和第三張力區60均設置了多個導向過輥(常規過輥)，以及在放卷機構10到第一冷卻鍍膜輥30、第一冷卻鍍膜輥30到第二冷卻鍍膜輥50、第二冷卻鍍膜輥50 到收卷輥701之間設置展平輥，對基材進行展平處理，可以提高基材在冷卻鍍膜輥上的鍍膜效果，使鍍膜完成后收卷整齊，有效減少基材的針孔起皺變形等質量缺陷。這樣，可以解決傳統的卷繞結構中大包角傳動很容易使柔性基材拉伸變形、鍍膜不均勻、易起皺、暴筋開等質量缺陷，也即可以解決現有的單輥大包角真空卷繞鍍膜的弊端。
44.并且，本實施例在第一張力區20、第二張力區40和第三張力區60均設置了張力測量輥，可用以測量區間張力，在卷繞裝置運轉時以冷卻鍍膜輥速度為基準速度，通過張力測量輥測量張力信號并反饋到控制器，控制收卷和放卷電機的轉速，能夠達到恒速和恒張力的目的。由于真空鍍膜產品的質量通常由卷繞張力控制的精度、穩定性直接決定，本實施例的輥系布局合理，通過三段區間的張力控制，在各區間設置張力測量輥，可以解決鍍膜過程中保持張力的穩定性的問題，利于提高鍍膜質量。
45.此外，在本技術的優選實施方式中，在收卷機構70中還設置了活動壓輥 702，可根
據收卷輥701收卷基材的厚度時時活動，實現柔性基材收卷輥701 的柔性基材收緊壓實功能，便于收卷輥701上的柔性基材收緊壓實。
46.如圖1至圖2所示，在一些實施例中，沿基材80輸送路徑，第一張力區 20包括依次設置的第一導向過輥201、第一張力測量輥202、第一展平輥203 和第二導向過輥204，相對而言，該第一導向過輥201更靠近放卷機構10，第二導向過輥204更靠近第一冷卻鍍膜輥30，第一張力測量輥202和第一展平輥 203設于第一導向過輥201和第二導向過輥204之間；第二張力區40包括依次設置的第三導向過輥401、第二張力測量輥402、第二展平輥403和第四導向過輥404，相對而言，該第三導向過輥401更靠第一冷卻鍍膜輥30，第四導向過輥404更靠近第二冷卻鍍膜輥50，第二張力測量輥402和第二展平輥403 設于第三導向過輥401和第四導向過輥404之間；第三張力區60包括依次設置的第五導向過輥601、第三張力測量輥602、第三展平輥603和第六導向過輥604；相對而言，該第五導向過輥601更靠近第二冷卻鍍膜輥50，第六導向過輥604更靠近收卷機構70，第三張力測量輥602和第三展平輥603設于第五導向過輥601和第六導向過輥604之間。
47.上述第一張力區20、第二張力區40和第三張力區60分別設有一個張力測量輥、一個展平輥和兩個導向過輥，其中張力測量輥和展平輥設于兩個導向過輥之間。由此，經由放卷機構10釋放的柔性基材80經過第一張力區20的第一導向過輥201、第一張力測量輥202、第一展平輥203、第二導向過輥204 后進入第一冷卻鍍膜輥30，由第一冷卻鍍膜輥30出來的柔性基材80經過第二張力區40的第三導向過輥401、第二張力測量輥402、第二展平輥403、第四導向過輥404后進入第二冷卻鍍膜輥50，由第二冷卻鍍膜輥50出來的基材80 經過第三張力區60的第五導向過輥601、第三張力測量輥602、第三展平輥603、第六導向過輥604后被收卷機構70收卷。
48.由此，該卷繞裝置采用具有兩個冷卻鍍膜輥的鍍膜卷繞結構，能夠一次性完成柔性基材的雙面鍍膜，并且，在第一冷卻鍍膜輥30的兩側對稱設置導向過輥即第二導向過輥204和第三導向過輥401，在第二冷卻鍍膜輥50的兩側對稱設置導向過輥即第四導向過輥404和第五導向過輥601，可以使得柔性基材在冷卻鍍膜輥上的包角度數控制在合理的范圍。進一步，該卷繞裝置分為三段張力區，放卷機構10與第一冷卻鍍膜輥30之間形成的第一張力區20設有第一導向過輥201、第一展平輥203、第二導向過輥204；第一冷卻鍍膜輥30與第二冷卻鍍膜輥50之間形成的第二張力區40設有第三導向過輥401、第二展平輥403、第四導向過輥404；第二冷卻鍍膜輥50與收卷機構70之間形成的第三張力區60設有第五導向過輥601、第三展平輥603、第六導向過輥604；這樣，能夠將柔性基材進行展平處理，提高基材在冷卻鍍膜輥上的鍍膜效果，使鍍膜完成后收卷整齊，有效減少基材的針孔起皺變形等質量缺陷。同時，上述三段張力區還分別設有第一張力測量輥202、第二張力測量輥402和第三張力測量輥602，可用于測試柔性基材在放卷機構10、第一冷卻鍍膜輥30、第二冷卻鍍膜輥50、收卷機構70之間的張力，有利于提高鍍膜效果，可以保證鍍膜質量。
49.在本技術的其他實施例中，第一張力區20、第二張力區40和第三張力區 60中的張力測量輥、展平輥和導向過輥的數量或設置還可以具有不同的選擇。例如，第一張力區20、第二張力區40或第三張力區60可以包括一個導向過輥、一個張力測量輥和一個展平輥；或者，第一張力區20、第二張力區40或第三張力區60可以包括三個導向過輥、一個張力測量輥和一個展平輥；第一張力區20、第二張力區40或第三張力區60可以包括兩個導向過輥、兩個
張力測量輥和一個展平輥等，當然，還可以具有其他不同數量的選擇設置，在此不再一一列舉。此外，第一張力區20、第二張力區40和第三張力區60中的各張力測量輥、各展平輥和各導向過輥的設置數量及設置位置可以相同也可以不同。
50.在一些實施例中，第一導向過輥201位于放卷機構10的一側，第二導向過輥204貼合設置于第一冷卻鍍膜輥30的一側，第三導向過輥401貼合設置于第一冷卻鍍膜輥30的另一側，第四導向過輥404貼合設置于第二冷卻鍍膜輥50的一側，第五導向過輥601貼合設置于第二冷卻鍍膜輥50的另一側，第六導向過輥604位于收卷機構70的一側。上述第二導向過輥204和第三導向過輥401可以對稱設置于第一冷卻鍍膜輥30的兩側，如第二導向過輥204和第三導向過輥401可以分別設置于第一冷卻鍍膜輥30左上方和左下方。上述第四導向過輥404和第五導向過輥601可以對稱設置于第二冷卻鍍膜輥50的兩側，如第四導向過輥404和第五導向過輥601可以分別設置于第二冷卻鍍膜輥50右上方和右下方。這樣，布局合理，充分合理利用空間，也可以較好地調節柔性基材的張力，有效減少或避免造成鍍層出現缺陷。
51.在一些實施例中，放卷機構10包括放卷輥和放卷電機，放卷電機可用于驅動放卷輥轉動，收卷機構70包括收卷輥701和收卷電機，收卷電機可用于驅動收卷輥701轉動；雙面磁控濺射卷繞鍍膜設備包括控制裝置，放卷電機、收卷電機和張力測量輥分別與控制裝置信號連接。
52.這樣，通過將放卷電機、收卷電機和張力測量輥分別與控制裝置信號連接，可通過張力測量輥測量張力信號，并反饋至控制裝置，控制裝置可依據所接收的張力信號控制放卷電機和收卷電機的轉速，從而能夠達到恒速和恒張力的目的，提高鍍膜質量。
53.上述雙面磁控濺射卷繞鍍膜設備中的控制裝置的具體結構或類型及工作原理等可參考現有技術，本實施例對此不作限定，在此不再贅述。
54.可選的，張力測量輥的端部安裝有放卷張力測試器。
55.在一些實施例中，收卷機構70還包括活動壓輥702，活動壓輥702設于收卷輥701的一側，活動壓輥702適于隨著收卷輥701上的基材卷繞的直徑變化而移動。在柔性基材收卷輥701的一側可以設置一個或多個活動壓輥702，該活動壓輥702可根據收卷輥701收卷基材的厚度時時活動，對雙面鍍膜柔性基材實現收緊壓實功能。
56.本實施例通過活動壓輥702的設置，可以實現柔性基材收卷輥701的柔性基材收緊壓實功能，便于收卷輥701上的柔性基材收緊壓實。
57.在一些實施例中，真空腔室90的內部上方設置有放卷機構10，放卷機構 10的下方設置有收卷機構70，放卷機構10的下方偏右設置有第一冷卻鍍膜輥 30，放卷機構10的下方偏左設置有第二冷卻鍍膜輥50。
58.在一些實施例中，放卷機構10和收卷機構70呈上下對稱的方式布置，第二冷卻鍍膜輥50和第一冷卻鍍膜輥30呈左右對稱的方式布置。
59.本實施例中，放卷機構10和收卷機構70可以在豎直方向上間隔、對稱的布置，第二冷卻鍍膜輥50和第一冷卻鍍膜輥30可以在水平方向上間隔、對稱的布置。換言之，放卷機構10和收卷機構70可以沿真空腔室90的上下方向彼此對齊設置；第一冷卻鍍膜輥30和第二冷卻鍍膜輥50可以沿真空腔室90 的左右方向對稱設置。也即，第一冷卻鍍膜輥30和第二冷卻鍍膜輥50以相同的水平位置布置在放卷機構10和收卷機構70之間。通過該位置關系的配
置，基材在往返鍍膜的過程中，從輸送至濺射區(鍍膜區)的路徑均相同。從而，可以使基材從收卷機構70至第一冷卻鍍膜輥30的路徑和對膜的作用與第二冷卻鍍膜輥50至收卷機構70的路徑和對膜的作用相同。
60.這樣，結構布局合理，對稱效果好，有利于提高鍍膜效果，保證鍍膜質量。
61.此外，通過上述布置，可以使柔性基材的走膜路徑更加簡便，從而便于各個部件的排布安裝，便于使用和維護。
62.可選的，第一冷卻鍍膜輥30和第二冷卻鍍膜輥50的直徑相同。本實施例中，第一冷卻鍍膜輥30和第二冷卻鍍膜輥50的結構和位置關系均可以相同。
63.在一些實施例中，真空腔室90內的左右兩端分別設置有第一磁控濺射區901和第二磁控濺射區902，第一磁控濺射區901圍繞第一冷卻鍍膜輥30設置，第二磁控濺射區902圍繞第二冷卻鍍膜輥50設置。可選的，第一磁控濺射區 901和第二磁控濺射區902可以均設置磁控濺射的多個靶材910，靶材910設置在真空腔室90內，可以分別圍繞第一冷卻鍍膜輥30和第二冷卻鍍膜輥50 環繞形排列。
64.在一些實施例中，第一冷卻鍍膜輥30和第二冷卻鍍膜輥50均設置有用于冷卻介質循環流通的空腔或夾層；和/或，第一冷卻鍍膜輥30和第二冷卻鍍膜輥50之間設置有冷卻隔板，冷卻隔板具有供冷卻管通過的冷卻空間。
65.本實施例中，冷卻鍍膜輥在鍍膜的過程中起著非常重要的作用，一方面，冷卻鍍膜輥可以起到對基材進行冷卻的作用，以消除由于柔性基材溫度的升高，使得柔性基材附著性能的變化，以及柔性基材層中原子的重新排列；另一方面，冷卻鍍膜輥也可以起到引導柔性基材傳動和展平柔性基材的作用，使被鍍材料均勻地鍍到柔性基材上。
66.對于冷卻鍍膜輥上的基材進行冷卻的方式可以具有多種形式，如可以在冷卻鍍膜輥內部安裝冷卻裝置，用于使冷卻鍍膜輥上的基材的溫度降低；或者，也可以在兩個冷卻鍍膜輥之間設置冷卻隔板，在冷卻隔板中通入冷卻介質，以使冷卻鍍膜輥上的基材的溫度降低；當然，還可以采用其他的實現方式，本實施例對此不作限定。
67.可選的，可以通過真空泵如分子泵對真空腔室90進行抽真空。可選的，真空腔室90內可以安裝深冷水汽捕集器，深冷水汽捕集器可以為深冷泵。該深冷泵可以提高了對連續鍍膜過程中基材的放氣抽速，從而提高了工作效率。
68.可選的，真空腔室90內設有離子源處理器，如在第一磁控濺射區901的靶材910的右上側設置有離子源處理器，在第二磁控濺射區902的靶材910的左上側設置有離子源處理器，可對基材表面進行離子轟擊，提高基材表面粗糙度，確保膜層與基材之間的剝離強度。
69.在一些實施例中，本技術實施例提供了一種雙面磁控濺射卷繞鍍膜設備，包括真空腔室90及設置于真空腔室90內的前述的基于柔性基材雙面鍍膜卷繞裝置。
70.本實施例中所述的雙面磁控濺射卷繞鍍膜設備包括上述卷繞裝置，因而至少具有該卷繞裝置所具有的所有特征及優勢，在此不再贅述。應理解，雙面磁控濺射卷繞鍍膜設備中的其余部分結構的設置如冷卻系統、真空系統或控制系統等的具體結構或連接方式或工作原理可參考現有技術，本實施例對此不作限定，在此不再贅述。
71.本實用新型說明書中未詳細說明部分為本領域技術人員公知技術。
72.在本實用新型的描述中，需要理解的是，術語“中心”、“縱向”、“橫向”、“長度”、“寬度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底”“內”、“外”、“順
時針”、“逆時針”、“軸向”、“徑向”、“周向”等指示的方位或位置關系為基于附圖所示的方位或位置關系，僅是為了便于描述本實用新型和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構造和操作，因此不能理解為對本實用新型的限制。
73.在本實用新型中，除非另有明確的規定和限定，術語“安裝”、“相連”、“連接”、“固定”等術語應做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或成一體；可以是機械連接，也可以是電連接或彼此可通訊；可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連，可以是兩個元件內部的連通或兩個元件的相互作用關系，除非另有明確的限定。對于本領域的普通技術人員而言，可以根據具體情況理解上述術語在本實用新型中的具體含義。
74.在本實用新型中，術語“一個實施例”、“一些實施例”、“示例”、“具體示例”或“一些示例”等意指結合該實施例或示例描述的具體特征、結構、材料或者特點包含于本實用新型的至少一個實施例或示例中。在本說明書中，對上述術語的示意性表述不必須針對的是相同的實施例或示例。而且，描述的具體特征、結構、材料或者特點可以在任一個或多個實施例或示例中以合適的方式結合。此外，在不相互矛盾的情況下，本領域的技術人員可以將本說明書中描述的不同實施例或示例以及不同實施例或示例的特征進行結合和組合。
75.最后應說明的是：以上實施例僅用以說明本實用新型的技術方案，而非對其限制；盡管參照前述實施例對本實用新型進行了詳細的說明，本領域的普通技術人員應當理解：其依然可以對前述各實施例所記載的技術方案進行修改，或者對其中部分技術特征進行等同替換；而這些修改或者替換，并不使相應技術方案的本質脫離本實用新型各實施例技術方案的精神和范圍。
技術特征：
1.一種基于柔性基材雙面鍍膜卷繞裝置，用于雙面磁控濺射卷繞鍍膜設備，所述雙面磁控濺射卷繞鍍膜設備包括真空腔室，所述真空腔室內設有基于柔性基材雙面鍍膜卷繞裝置，其特征在于，所述卷繞裝置包括：放卷機構、第一張力區、第一冷卻鍍膜輥、第二張力區、第二冷卻鍍膜輥、第三張力區和收卷機構，由所述放卷機構釋放的基材依次經過所述第一張力區、所述第一冷卻鍍膜輥、所述第二張力區、所述第二冷卻鍍膜輥和所述第三張力區，再由所述收卷機構進行收卷；所述第一冷卻鍍膜輥與所述第二冷卻鍍膜輥相鄰的方向分別為兩次鍍膜的基材的進入方向；所述第一張力區、所述第二張力區和所述第三張力區各自獨立地包括至少一個張力測量輥、至少一個展平輥和多個導向過輥。2.根據權利要求1所述的基于柔性基材雙面鍍膜卷繞裝置，其特征在于，沿基材輸送路徑，所述第一張力區包括依次設置的第一導向過輥、第一張力測量輥、第一展平輥和第二導向過輥，所述第二張力區包括依次設置的第三導向過輥、第二張力測量輥、第二展平輥和第四導向過輥，所述第三張力區包括依次設置的第五導向過輥、第三張力測量輥、第三展平輥和第六導向過輥。3.根據權利要求2所述的基于柔性基材雙面鍍膜卷繞裝置，其特征在于，所述第一導向過輥位于所述放卷機構的一側，所述第二導向過輥貼合設置于所述第一冷卻鍍膜輥的一側，所述第三導向過輥貼合設置于所述第一冷卻鍍膜輥的另一側，所述第四導向過輥貼合設置于所述第二冷卻鍍膜輥的一側，所述第五導向過輥貼合設置于所述第二冷卻鍍膜輥的另一側，所述第六導向過輥位于所述收卷機構的一側。4.根據權利要求1所述的基于柔性基材雙面鍍膜卷繞裝置，其特征在于，所述放卷機構包括放卷輥和驅動所述放卷輥轉動的放卷電機，所述收卷機構包括收卷輥和驅動所述收卷輥轉動的收卷電機；所述雙面磁控濺射卷繞鍍膜設備包括控制裝置，所述放卷電機、所述收卷電機和所述張力測量輥分別與所述控制裝置信號連接。5.根據權利要求4所述的基于柔性基材雙面鍍膜卷繞裝置，其特征在于，所述收卷機構還包括活動壓輥，所述活動壓輥設于所述收卷輥的一側，所述活動壓輥適于隨著所述收卷輥上的基材卷繞的直徑變化而移動。6.根據權利要求1所述的基于柔性基材雙面鍍膜卷繞裝置，其特征在于，所述真空腔室的內部上方設置有所述放卷機構，所述放卷機構的下方設置有所述收卷機構，所述放卷機構的下方偏右設置有所述第一冷卻鍍膜輥，所述放卷機構的下方偏左設置有所述第二冷卻鍍膜輥。7.根據權利要求6所述的基于柔性基材雙面鍍膜卷繞裝置，其特征在于，所述放卷機構和所述收卷機構呈上下對稱的方式布置，所述第二冷卻鍍膜輥和所述第一冷卻鍍膜輥呈左右對稱的方式布置。8.根據權利要求1至7任一項所述的基于柔性基材雙面鍍膜卷繞裝置，其特征在于，所述真空腔室內的左右兩端分別設置有第一磁控濺射區和第二磁控濺射區，所述第一磁控濺射區圍繞所述第一冷卻鍍膜輥設置，所述第二磁控濺射區圍繞所述第二冷卻鍍膜輥設置。9.根據權利要求1至7任一項所述的基于柔性基材雙面鍍膜卷繞裝置，其特征在于，所
述第一冷卻鍍膜輥和所述第二冷卻鍍膜輥均設置有用于冷卻介質循環流通的空腔或夾層；和/或，所述第一冷卻鍍膜輥和所述第二冷卻鍍膜輥之間設置有冷卻隔板，所述冷卻隔板具有供冷卻管通過的冷卻空間。10.一種雙面磁控濺射卷繞鍍膜設備，其特征在于，包括真空腔室及設置于所述真空腔室內如權利要求1至9任一項所述的基于柔性基材雙面鍍膜卷繞裝置。
技術總結
本申請公開了一種基于柔性基材雙面鍍膜卷繞裝置及卷繞鍍膜設備，屬于鍍膜設備技術領域。一種卷繞裝置，用于雙面磁控濺射卷繞鍍膜設備，該設備的真空腔室內設有卷繞裝置，該卷繞裝置包括：放卷機構、第一張力區、第一冷卻鍍膜輥、第二張力區、第二冷卻鍍膜輥、第三張力區和收卷機構，由放卷機構釋放的基材依次經過第一張力區、第一冷卻鍍膜輥、第二張力區、第二冷卻鍍膜輥和第三張力區，再由收卷機構進行收卷；第一張力區、第二張力區和第三張力區均包括至少一個張力測量輥、至少一個展平輥和多個導向過輥。本申請能夠在一個工作周期內實現雙面連續鍍膜，可以提升生產效率，還能解決鍍膜過程中保持張力的穩定性的問題，提高鍍膜質量。量。量。
